Gebraucht DENTON VACUUM DESK II #9308564 zu verkaufen

DENTON VACUUM DESK II ist eine Sputteranlage, die für Anwendungen wie Filmabscheidung und Beschichtung von Oberflächenpräparaten entwickelt wurde. Es ist ein leistungsstarkes, fortschrittliches System, das eine Vielzahl von Sputtererkonfigurationen herstellt, je nach den Bedürfnissen des Benutzers. Darüber hinaus ist dieses Gerät für den Großeinsatz konzipiert, mit seinen hervorragenden Steuerungsfähigkeiten und der hocheffizienten Sputtertechnologie. Zu den Hauptkomponenten der Maschine gehören die Vakuumkammer, die Sputterziele, die Stromversorgung und der HF-Generator. Die Vakuumkammer besteht aus einem hermetisch abgedichteten Edelstahlkörper, der ein HF-Werkzeug zur Aufrechterhaltung des Vakuumniveaus verwendet. Innerhalb der Kammer bleibt der Druck während eines Abscheideprozesses zwischen 5 und 6 mTorr. Die Stromversorgung liefert den Sputterzielen einen elektrischen Strom. Die maximale Leistung beträgt bis zu 600 Ampere. Der HF-Generator wird verwendet, um die Hochspannung zu erzeugen, die verwendet wird, um die Sputterziele zu erregen. Die einzigartigen Funktionen von DESK II ermöglichen es dem Benutzer, aus einer Vielzahl von Sputterkonfigurationen auszuwählen, einschließlich einzelner, doppelter und dreifacher Ziele. Dies ist vorteilhaft für die Herstellung von Platten, Kammern oder komplexen Strukturen mit verschiedenen Arten von Materialien. Der Benutzer kann die Position der Sputterziele, die Stromversorgung und den HF-Generator steuern, so dass die Materialabscheidung auf die gewünschte Anwendung zugeschnitten werden kann. Dieses Sputterelement verfügt auch über einen drehbaren Darstellungsbereich, einen Quarz-Darstellungsbereich und eine Drehung der Basis mit variabler Geschwindigkeit. Der Viewport bietet eine Innenansicht des innerhalb der Kammer stattfindenden Abscheideprozesses. Der Quarz-Darstellungsbereich ermöglicht es dem Benutzer, den Abscheidungsprozess extern zu überwachen. Mit der variablen Drehzahl kann der Benutzer die Position der Sputterziele steuern. Dies ermöglicht einen präzisen und gleichmäßigen Abscheidevorgang. Darüber hinaus ermöglicht DENTON VACUUM DESK II dem Benutzer, die Substrattemperatur und den Kammerdruck separat zu steuern. Dadurch wird sichergestellt, dass der Sputterprozess mit minimaler Verschmutzung durchgeführt werden kann und die gewünschten Eigenschaften der Folien erhalten werden können. Seine fortschrittliche Sputtertechnologie und seine hervorragenden Steuerungsfunktionen machen es zu einem idealen Produkt für verschiedene Sputteroperationen.