Gebraucht DENTON VACUUM Discovery. #293797109 zu verkaufen
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ID: 293797109
Wafergröße: 6"-8"
Weinlese: 2007
Deposition system, 6"-8"
Vacuum load lock
Robot loading assembly
VEECO Ion source, 5 cm
Gas controller
Cables
High steel chamber: 2" x 2" x 3"
(2) VAT Gate valves
(2) RF Tuners
(2) ANGSTROM SCIENCES RF Cathodes with power supplies / controllers
(2) ADVANCED ENERGY / DRESSLER Cesar RF Power generators
CTI CRYOGENICS Cryo-Torr 8 Cryogenic pump with monitor
CTI CRYOGENICS 8200 Compressor
KYKY Turbo pump
TRP-90 Vacuum pump
Pressure monitor
1200H Controller
Isolation valve
Power supply
PC
2007 vintage.
DENTON VACUUM Reliant 2 ist eine fortschrittliche Sputterausrüstung für Dünnschichtabscheidungsprozesse in Halbleiter-, Optik- und Forschungsanwendungen. Dieses hochmoderne System bietet überlegene Leistung, Flexibilität und Zuverlässigkeit für die Herstellung hochwertiger dünner Folien mit ausgezeichneter Gleichmäßigkeit und Präzision. Reliant 2 ist mit modernster Magnetron-Sputtertechnologie ausgestattet, die eine effiziente und präzise Abscheidung von dünnen Schichten auf verschiedenen Substratmaterialien ermöglicht. Diese Einheit verfügt über eine Dual-Magnetron-Konfiguration, die das gleichzeitige Sputtern mehrerer Materialien zur mehrschichtigen Abscheidung oder Legierungsbildung ermöglicht. Das Dual-Magnetron-Design verbessert die Vielseitigkeit der Maschine und ermöglicht es Benutzern, komplexe Dünnschichtstrukturen mit einzigartigen Eigenschaften zu erstellen. Der Sputterprozess in DENTON VACUUM Reliant 2 wird in einer Hochvakuumumumgebung durchgeführt und gewährleistet einen sauberen und kontaminationsfreien Abscheidungsprozess. Das Werkzeug ist mit einer robusten Vakuumpumpe ausgestattet, die ultrahohe Vakuumwerte erreichen und aufrechterhalten kann, die für hochwertige Dünnschichtbeschichtungen mit ausgezeichneter Haftung und Gleichmäßigkeit unerlässlich sind. Das Vakuummodell trägt auch zur Gesamtwirkung des Sputterprozesses bei, indem es Gasphasenwechselwirkungen minimiert und stabile Prozessbedingungen gewährleistet. Reliant 2 verfügt über erweiterte Steuerungs- und Überwachungsfunktionen, mit denen Benutzer Abscheidungsparameter wie Abscheiderate, Zielleistung, Gasdurchflussrate und Substrattemperatur genau anpassen und optimieren können. Das Gerät ist mit einer benutzerfreundlichen Schnittstelle ausgestattet, die Echtzeit-Prozessüberwachungs- und Datenerfassungsfunktionen bietet und es Anwendern ermöglicht, Prozessparameter zur Prozessoptimierung und Qualitätskontrolle zu verfolgen und zu analysieren. Einer der Hauptvorteile von DENTON VACUUM Reliant 2 ist seine Fähigkeit, eine breite Palette von Zielmaterialien unterzubringen, einschließlich Metalle, Oxide, Nitride und mehr. Das System bietet leicht zu ändernde Zielfunktionen, so dass Benutzer schnell und effizient zwischen verschiedenen Zielmaterialien wechseln können. Diese Flexibilität macht Reliant 2 ideal für Forschungs- und Entwicklungsanwendungen, bei denen die Abscheidung mehrerer Materialien und Dünnschichtstrukturen erforderlich ist. Neben seinen erweiterten Sputterfunktionen bietet DENTON VACUUM Reliant 2 auch eine Reihe von optionalen Funktionen und Upgrades, um spezifische Anwendungsanforderungen zu erfüllen. Dazu gehören Substratheizfähigkeiten zur verbesserten Filmhaftung und Kontrolle der Filmmorphologie sowie In-situ-Überwachungswerkzeuge zur Echtzeitcharakterisierung von Filmeigenschaften. Das Gerät kann auch in Automatisierungs- und Softwaresteuerungssysteme integriert werden, um die Produktivität und Bedienungsfreundlichkeit zu erhöhen. Reliant 2 ist insgesamt eine anspruchsvolle Sputtermaschine, die modernste Technologie mit benutzerfreundlicher Bedienung kombiniert, um leistungsstarke Dünnschichtabscheidungsfunktionen zu bieten. Ob für die Herstellung von Halbleiterbauelementen, optische Beschichtungsanwendungen oder Forschungs- und Entwicklungsprojekte, DENTON VACUUM Reliant 2 bietet eine zuverlässige und vielseitige Lösung für präzise und gleichmäßige Dünnschichtbeschichtungen mit außergewöhnlicher Qualität und Leistung.
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