Gebraucht EDWARDS S150B #293809357 zu verkaufen

Hersteller
EDWARDS
Modell
S150B
ID: 293809357
Sputter coater Boro silicate glass Implosion guard Water cooled copper specimen table, 4" Sputtering rate: 60 nm per minute E2M2 Rotary vane pump Automatic reset (4) Cathodes Vacuum measurement: Pirani 10 Control unit: 5 mbar PR 10-K Gauge head Power supply: 220~240 V, 5 Phase, 50 Hz.
EDWARDS S150B ist eine Hochleistungs-Sputteranlage, die für die Dünnschichtabscheidung in fortgeschrittenen Anwendungen in der Halbleiter-, Optik- und Elektronikfertigung entwickelt wurde. Dieses System bietet modernste Technologie und außergewöhnliche Leistung, um den anspruchsvollen Anforderungen moderner Dünnschichtabscheidungsprozesse gerecht zu werden. EDWARDS S 150 B verwendet eine Magnetron-Sputtertechnik, um dünne Filme aus verschiedenen Materialien mit hoher Präzision und Gleichmäßigkeit auf Substraten abzuscheiden. Magnetronsputtern ist ein physikalisches Aufdampfen (PVD) -Verfahren, bei dem ein Zielmaterial mit hochenergetischen Ionen bombardiert wird, wodurch Atome ausgestoßen und auf ein Substrat abgeschieden werden, um einen dünnen Film zu bilden. Eines der Hauptmerkmale von S150B ist seine fortschrittliche Vakuumeinheit, die eine Hochvakuumumgebung bietet, die für die Erzielung hochwertiger dünner Filme mit ausgezeichneter Haftung und Gleichmäßigkeit unerlässlich ist. Die Vakuummaschine umfasst Hochleistungs-Turbomolekularpumpen, kryogene Pumpen und andere Komponenten, um niedrige Basisdrücke und eine effiziente Gasabfuhr während des Abscheidungsprozesses zu gewährleisten. Die Sputterkammer von S 150 B ist für maximale Vielseitigkeit und Benutzerfreundlichkeit ausgelegt, mit einer anpassbaren Konfiguration für verschiedene Zielgrößen und -formen. Die Kammer ist mit In-situ-Prozessüberwachungs- und Kontrollsystemen ausgestattet, um die Abscheidungsparameter zu optimieren und konsistente Filmeigenschaften über mehrere Läufe zu gewährleisten. EDWARDS S150B verfügt über hochmoderne Magnetronquellen, die eine hohe Zielnutzungseffizienz und gleichmäßige Sputterraten über die Substratoberfläche liefern. Die Magnetronquellen lassen sich leicht für reaktive Sputterprozesse konfigurieren und ermöglichen die Abscheidung von Verbunddünnschichten mit präziser stöchiometrischer Kontrolle. Zur Verbesserung von Prozessflexibilität und Produktivität ist EDWARDS S 150 B mit einem ausgeklügelten Automatisierungswerkzeug ausgestattet, das einen rezeptgesteuerten Betrieb, eine Echtzeitüberwachung von Prozessparametern und Fernsteuerungsfunktionen ermöglicht. Dieses Automatisierungs-Asset ermöglicht es Anwendern, komplexe Abscheidungsprozesse mit minimalem manuellen Eingriff einfach einzurichten und durchzuführen, was zu verbesserter Prozesswiederholbarkeit und Effizienz führt. Zusätzlich zu den fortschrittlichen technischen Funktionen wurde S150B mit benutzerfreundlichen Funktionen entwickelt, um Wartungs- und Fehlerbehebungsaufgaben zu optimieren. Das Modell umfasst umfassende Diagnose- und Fehlerberichterstattungstools, um Probleme schnell zu erkennen und zu beheben, Ausfallzeiten zu minimieren und die Betriebszeit der Geräte zu maximieren. Insgesamt ist das S 150 B Sputtersystem ein vielseitiges und zuverlässiges Werkzeug für die Dünnschichtabscheidung in Forschungs- und Produktionsumgebungen. Seine fortschrittlichen Fähigkeiten, seine überlegene Leistung und sein benutzerfreundliches Design machen es zu einer idealen Wahl für Anwendungen, die eine präzise Kontrolle über Dünnschichteigenschaften und eine hervorragende Prozesswiederholbarkeit erfordern.
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