Gebraucht ENERJET KJL-HV-268-A #9122382 zu verkaufen

Hersteller
ENERJET
Modell
KJL-HV-268-A
ID: 9122382
Sputtering system Targets: Torus-10 Chamber: ~28" round vacuum, 14" H (4) Ports in floor of chamber (3 filled with Torus-10 sputtering sources) Front viewport Rear connections for rough lines and gauges Side mounting for cryo pump Chamber lid with lifter has a 8 x 4" wafer plate mounted to it on a rotary feedthru Motor connected to motor controller that spins at 0-24 RPM CTI-8 Cryo pump Compressor not included (cables & hoses included) Tool pumps to 8x10-6 in 2 hours, upper 10-7 overnight Cryo has a gate valve and a conductance control valve (multivane, micrometer at stop to throttle back pumping) (3) Sputter sources (1) Connected to DC power supply: (1) Eratron (1) RF: not connected Targets available: Al, Al/Si (0.5, 1, 2%) C, Cr, Cu, Mo, Si, SiO2, Si3N4, Ta, Ti, TiN, W, W-Ti, WC and Y in various states of use Tool has systems to run: Pump controller to control power to pumps and crossover to high vac Gauge interface and baratron, convection and ion gauges Flow controller for MFCs (100 SCCM Ar, O2, N2) that can be slaved to pressure or ratio'd Cryo controller and cryo temperature gauge Heater controller but heating element has been moved Rotation controller Water flow system, valves and flow switches Interlocked cabinet Fixturing for 4", 3" wafers (2) Chamber shields that can be cleaned (floor of chamber is only part that is not cleaned) Currently in cleanroom.
ENERJET KJL-HV-268-A Sputteranlage ist eine Hochleistungs-Sputtervorrichtung zur Abscheidung von dünnen Filmen aus Atomen und Molekülen auf Oberflächen. Das System besteht aus einer Drei-Quellen-Mehrkathode, die Pistole stottert, die mit einem Hochvakuumraum mit einer einheitlichen Druck-Regulierungseinheit verbunden ist, für das Arbeitsumfeld der Maschine zu kontrollieren. Die Pistole verfügt über eine eingebaute Kammer zum Ablegen von zerstäubten Folien mit einem verstellbaren Substrathalter, der ein breites Anwendungsspektrum ermöglicht. Das Tool verfügt über eine innovative und fortschrittliche Hochvakuumkammer, die effizient, sicher und einfach zu bedienen ist. Es verwendet eine magnetische Schwebebasis, die den Druck innerhalb der Kammer dynamisch ausgleicht und eine gleichmäßige Filmabscheidung gewährleistet. Ein eingebauter Kammerdruckregler ermöglicht es dem Anwender, die Arbeitsumgebung präzise und zuverlässig zu steuern. Die Sputterkathoden liefern gleichmäßige, energiereiche Ionen an die zu zerstäubende Oberfläche, wodurch eine Kontamination verhindert und das Einbrennen und die anfängliche Reinigung des Substrats vermieden wird. KJL-HV-268-A Sputtermodell ist ideal für die Abscheidung einer Vielzahl von Metallen, Legierungen, Oxiden und anderen Materialien. Dank variabler Geometrie und Pulsfrequenz kann das Gerät bis zu einer Dicke von wenigen Angströmen zum Schichten oder Ätzen von Materialien verwendet werden. Der Substrathalter ist verstellbar und kann Substrate bis 12 „x 12“ im Durchmesser aufnehmen. Es ist auch in der Lage, Schichten in verschiedenen Winkeln zu zerstäuben, so dass die Herstellung von mehrschichtigen Folien. Das System verfügt über eine komfortable digitale Steuerschnittstelle mit Eingängen für die externe Steuerung. So lässt sich das Gerät einfach automatisieren und in bestehende Systeme integrieren. Die Hochvakuumkammer ist wassergekühlt, spart Betriebskosten und hat eine Sicherheitsverriegelung, die die Tür verriegelt, wenn die Vakuumkammer in Betrieb ist. Es verfügt auch über Diagnose-Alarme und Kontrollen, so dass der Benutzer auf Sicherheitsprotokolle achten kann, während die Maschine läuft. ENERJET KJL-HV-268-A Sputterwerkzeug bietet die ultimative Produktivität, Geschwindigkeit und Präzision. Mit seinen fortschrittlichen Eigenschaften und seiner zuverlässigen Leistung ist es eine ausgezeichnete Wahl für die qualitativ hochwertige Sputterdünnschichtabscheidung.
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