Gebraucht FHR Line 1100 V #9257517 zu verkaufen
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Verkauft
ID: 9257517
Inline sputtering system
Deposition of dielectric coatings: 7° front side
Modules:
Module 1: Loading station
Module 2: Input load lock
Module 3: Buffer chamber 1
Module 4: Transfer chamber
Module 5:
Process chamber 1: Etching and sputtering
Module 6:
Process chamber 2: Sputtering
Module 7:
Process chamber 3: Sputtering
Module 8: Transfer chamber
Module 9: Output load lock
Module 10: Unloading station
Substrate load / unload module using (2) KUKA robots
Vacuum:
End pressure: ≤2 x 10^-6 mbar after 8 hours
End pressure: ≤1.5 x 10^-6 mbar after 12 hours
Chambers:
Stainless steel vacuum chamber
Powder coated mild steel chamber frame
Pneumatic gate valves
Modules includes:
Turbo molecular pump: DN 250 ISO-K
View port: DN 100
Front service flange
Flap valves VAT
Rotary dry pump: 300 m³/h and 250 m³/h
Roots pump: 1000 m³/h
1900 Is^-1 for N2 and ca 1400 I/s for N2
Gate valves DN 250
Meissner trap with cryo generator
(6) Pirani gauges fore vacuum sensors: 1000 mbar - 10^-3 mbar
(8) Penning high vacuum sensors: 10^-3 mbar - 10^-8 mbar
(13) Baratrons MKS 627: 10^-1 mbar - 10^-4 mbar
Upstream pressure regulation
Atmospheric pressure sensors
Heater
Vacuum gauges
Inverted magnetron plasma source:
Target length: ~39"
Planar sputtering cathodes:
(10) Cathodes
Target length: 39"
Target substrate distance: 4"
Rotatable sputtering cathodes:
(10) Cathodes
SCI
Type: MC-End block
Target length: 39"
Backing tube diameter: 5"
Target substrate distance: 4"
Gas admission system:
MFC for Ar each sputtering source
Gas lines for 5N purity
Power supplies:
High voltage power supply for inverted magnetron plasma source
DC AE Power supply: ≥1 kW
DC AE Power supply: 2 x 6 kW
DC AE Power supply: 30 kW
(5) DC AE Power supply: 2 x 10 kW
Control and visualization:
PC Surface
Operating system: Windows 7 Professional
PLC General control
Cooling water:
Power supplies (PSU)
Cathode
Cathode surrounds cooled by water loops
Power supplies:
Aggregate connection: 3 / N / PE AC 380 V / 50 Hz
Voltage: 24 V.
FHR Line 1100 V Sputterausrüstung ist ein vielseitiges und zuverlässiges Beschichtungssystem entwickelt, um dünne Filme auf einer Vielzahl von Substraten abzuscheiden. Es eignet sich zur Herstellung einer Reihe von Materialien, darunter Metalle, Keramik, Oxide und andere Verbindungen. Es ist eine hochproduktive Einheit mit der Fähigkeit, Oberflächen bis 1250 x 1100 mm zu beschichten. Linie 1100 V ist eine vakuumdichte Kammer, die es ermöglicht, die richtige Umgebung für die Herstellung von hochwertigen Folien zu erhalten. Die Kammer umfasst einen Prozessgaseinlaß und -auslaß, so daß die für ein erfolgreiches Sputtern notwendigen Gase und Dämpfe eingeleitet werden können. Die Maschine ist mit hohen Ausgangsleistungen von 3 bis 6 kW ausgelegt. Es ist auch für hochgenaue und wiederholbare Sputtern ausgelegt, mit Funktionen wie computergesteuerte Spannungsabbildung und die Fähigkeit, Filme im Mono- oder Dual-Komponentenmodus zu übertragen. Darüber hinaus ist die 1100V in der Lage, reaktives Sputtern, passives Sputtern sowie Abscheideverfahren für eine Vielzahl von Flocken- und Pulvermaterialien durchzuführen. Die FHR-Linie 1100 V ermöglicht eine Feinsteuerung der Energiemenge, die dem Substrat während des Abscheidungsprozesses zugeführt wird. Merkmale wie die rechnergesteuerte Spannung und die Stromabbildung sorgen dafür, dass der Prozess während der Abscheidung der dünnen Filme bei hoher Genauigkeit und Wiederholbarkeit gehalten wird. Die Sputterfolie ist aufgrund der effizienten Konstruktionen und Leistungsabgaben des Werkzeugs, die eine präzise Schichtdicke der Folie ermöglichen, sehr gleichmäßig. Das Asset bietet zudem ein leistungsstarkes, integriertes Steuerungsmodell mit Software-Suiten mit grafischen Verarbeitungseinheiten und flexiblen Programmieroptionen. Auf diese Weise können Anwender die Prozessparameter mit genauen Ergebnissen und Funktionen wie der automatischen Echtzeit-Überwachung von Prozessparametern feinjustieren. Die Linie 1100 V verfügt außerdem über eine integrierte Fehlerdiagnose, die die Problembehandlung erleichtert. Insgesamt ist die FHR-Linie 1100 V eine ideale Lösung für eine Vielzahl von Dünnschichtabscheidungsprozessen mit Funktionen, die wiederholbare und genaue Ergebnisse gewährleisten. Die leistungsstarken Steuerungssysteme und die gleichbleibende Leistung machen es zu einer wertvollen Ausrüstung für viele Produktionsprozesse.
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