Gebraucht FHR Line 1100 V7 #9257514 zu verkaufen
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Verkauft
ID: 9257514
Inline sputtering system
Deposition of dielectric coatings: 7° front side
Modules:
Module 1: Loading station
Module 2: Input load lock
Module 3: Buffer chamber 1
Module 4: Buffer chamber 2
Module 5: Sputtering pseudo reactive
Module 6: Gas separation buffer chamber
Module 7: Sputtering reactive
Module 8: Output load lock
Module 9: Unloading station
Substrate load / Unload module using (2) KUKA robots
Vacuum:
End pressure: ≤2 x 10^-6 mbar after 8 hours
End pressure: ≤1.5 x 10^-6 mbar after 12 hours
Chambers:
Stainless steel vacuum chamber
Powder coated mild steel chamber frame
Pneumatic gate valves
Modules includes:
Turbo molecular pump: DN 250 ISO-K
View port: DN 100
Front service flange
Flap valves VAT
Rotary dry pump: 300 m³/h and 250 m³/h
Roots pump: 1000 m³/h
1900 Is^-1 for N2 and ca 1400 I/s for N2
Gate valves DN 250
Meissner trap with cryo generator
(6) Pirani gauge fore vacuum sensors: 1000 mbar-10^-3 mbar
(8) Penning high vacuum sensors: 10^-3 mbar-10^-8 mbar
(13) Baratrons MKS 627: 10^-1 mbar-10^-4 mbar
Upstream pressure regulation
Atmospheric pressure sensors
Heater
vacuum gauges
Reserve flanges
Rotatable sputtering cathodes:
(8) TiOx cathodes
SCI MC End block
Target length: 43"
Backing tube diameter: 5"
Target substrate distance: 4"
Gas admission system:
MFC for Ar each sputtering source
Gas lines for 5N purity
(4) MF Bipolar power supplies
Control and visualization:
PC Surface
Operating system: Windows 7 Professional
PLC General control
Cooling water:
Power supplies
Cathode
Cathode surrounds cooled by water loops
Power supplies:
Aggregate connection: 3 / N / PE AC 380 V / 50 Hz
24 V.
FHR Linie 1100 V7 ist eine Sputterausrüstung, die von FHR entworfen und hergestellt wurde. Es handelt sich um ein physikalisches Bedampfungssystem (PVD), das in der Lage ist, dünne Filme aus Metall, dielektrischen und/oder keramischen Materialien durch ein Verfahren, das als Sputtern bezeichnet wird, auf Substraten abzuscheiden. Die Linie 1100 V7 ist für industrielle Anwendungen konzipiert und verfügt über eine Vielzahl von Funktionen zur Unterstützung der Serienproduktion. Die FHR Line 1100 V7 wird von einem Generator angetrieben, der Stromausgänge von 1KW bis 8KW im manuellen oder automatischen Modus erzeugen kann. Seine Vakuumeinheit besteht aus zwei Stufen; eine Schrupppumpe zum Evakuieren der Zielkammer und eine Turbopumpe zum Aufrechterhalten von Hochvakuumbedingungen. Diese Maschine kann Drücke von 10-7 Torr in der Abscheidekammer mit einem Basisdruck von 10-11 Torr erreichen. Die Leitung 1100 V7 kann mit ein bis vier Magnetronen konfiguriert werden, die gleichzeitig und unabhängig betrieben werden können. Jedes Magnetron ist mit einem Keramik- oder Stahltarget zum Abscheiden des Materials ausgestattet. Dieses Werkzeug kann auch zum reaktiven Sputtern zur Abscheidung von Oxid- oder Nitridmaterialien sowie Indiumzinnoxid (ITO) bei transparenten leitfähigen Oxid- (TCO) -Beschichtungen eingesetzt werden. Die FHR Line 1100 V7 verfügt über ein ultragenaues Scanobjekt, das zur Beschichtung von Substraten unterschiedlicher Größe und Form programmiert werden kann. Es kann verwendet werden, um Materialien mit anpassbaren Dicken mit einer maximalen Schichtdicke von 25 Mikrometern abzuscheiden. Darüber hinaus ist es mit einem Träger für mehrere Substrate ausgestattet. Es verfügt über spezielle Substrathalter, um Substrate so dünn wie 0,1 mm und in Größen von bis zu 300mm Quadrat zu unterstützen. Das Modell ist auch in der Lage, die Substrattemperatur unabhängig zu steuern, um Eigenschaften wie optische Klarheit oder Spannung abzustimmen. Die Linie 1100 V7 wurde für die Bedienersicherheit und Benutzerfreundlichkeit konzipiert. Sein modularer Aufbau macht es einfach zu installieren und zu warten. Für die Wartung verfügt die FHR-Linie 1100 V7 über eine automatisierte Reinigungsanlage, die die Kammer der restlichen Materialien und Verunreinigungen schnell evakuieren kann. Darüber hinaus kann es mit Fernüberwachung und Steuerungsmöglichkeiten konfiguriert werden, um eine Bedienung aus der Ferne zu ermöglichen. Schließlich ist das System in der Lage, detaillierte Analysen zu generieren, die eine präzise Prozessoptimierung und -verfolgung ermöglichen.
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