Gebraucht GILITEK EBG-800-DSC #9395809 zu verkaufen
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ID: 9395809
Ion Beam Sputtering (IBS) system
BROOKS On-Board 400 Cold pump
Osaka FR060D Mechanical pump
INFICON High and low vacuum gauge with controller
Telide flow meter
VAT APC
JOEL 6 Probe crystal control
INFICON Controller
CCR Auxiliary deposition ion source
JOEL Electron gun
Crucible
Coating machine controller.
GILITEK EBG-800-DSC Sputterausrüstung ist eine Hochleistungs-Beschichtungstechnologie für die Abscheidung von dünnen Schichten auf verschiedenen Substraten. Dieses leistungsstarke und flexible System nutzt die neuesten Fortschritte in der Materialwissenschaft und Ultrahochvakuumtechnologie und ermöglicht eine präzise Steuerung des Sputterprozesses. Das Gerät verfügt über die Electro Beam Gun (EBG-800), die einen hochenergetischen Ionenstrahl verwendet, um Zielmaterialien in einer Vakuumumgebung zu erodieren. Der Ionenstrahl wird durch ein elektrisches Hochspannungsfeld erzeugt und verbindet sich mit einem Gas (üblicherweise Argon) zu einer ionisierten Plasmawolke. Diese Plasmawolke wird dann auf das Zielmaterial gerichtet, wobei Atome von der Oberfläche des Zielmaterials gesputtert und auf dem Substrat abgeschieden werden können. EBG-800-DSC umfasst eine EBG-800 Stromversorgung mit Hochspannungsregelung, die eine präzise Prozesssteuerung ermöglicht. Das EBG-800 hat eine Leistungskapazität von bis zu 4kW für Hochleistungs- und Hochdichtesputtern. GILITEK EBG-800-DSC ist auch mit einem Dynamic Source Controller (DSC) ausgestattet, einem Mehrkanal-Controller, der eine präzise Steuerung der Ionenstrahlparameter bietet. Die Maschine umfasst Temperatur- und Drucksensoren und kann über eine programmierbare Steuerung fernbedient werden. Die Fernbedienung ermöglicht eine einfache Einrichtung und Optimierung des Sputterprozesses. EBG-800-DSC Werkzeug kann für verschiedene Sputteranwendungen angepasst werden. Die Anlage umfasst ein automatisiertes Ventilsteuermodell, das zur Steuerung des Argongasflusses verwendet werden kann und zur Beschichtung verschiedener Arten von Substratmaterialien verwendet werden kann. GILITEK EBG-800-DSC umfasst auch eine Staubkontrolleinrichtung, die eine Verschmutzung des Zielmaterials, des Substrats oder der Kammer verhindert. Das System ist mit leistungsstarken Softwarepaketen zur Überwachung, Steuerung und Optimierung des Sputterprozesses ausgestattet. Die Software ermöglicht Echtzeit-Tests und Analyse des Sputterprozesses und kann verwendet werden, um Parameter für optimale Filmqualität und -leistung anzupassen. EBG-800-DSC Sputtereinheit ist ein leistungsfähiges und vielseitiges Werkzeug zum Abscheiden dünner Filme auf verschiedenen Substraten. Die Kombination aus leistungsstarker Hardware und fortschrittlicher Software bietet eine präzise Steuerung des Sputterprozesses und sorgt für hochwertige Beschichtungen und Folien.
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