Gebraucht GILITEK IBSV-1100-MC #9354749 zu verkaufen

Hersteller
GILITEK
Modell
IBSV-1100-MC
ID: 9354749
Ion Beam Sputtering (IBS) system Planetary jig.
GILITEK IBSV-1100-MC ist eine Dual-Gun-DC-Diodensputterausrüstung mit mittlerer Kapazität, die hauptsächlich für Dünnschichtabscheidungsprozesse und physikalische Aufdampfprozesse verwendet wird. Das System umfasst einen integrierten Hochfrequenzgenerator, eine Gasgemischsteuerung, eine automatisierte Pumpmaschine und alle Hardware, die für sichere und effiziente Abscheidevorgänge erforderlich sind. IBSV-1100-MC verfügt über eine große Bearbeitungskammer mit einem Volumen von 1,2 m3, die die Abscheidung von großflächigen Substraten ermöglicht. Die Kammer ist mit zwei 2.8-kW (Kilowatt) DC-Diodensputterpistolen ausgelegt, die Ziele bis zu 450 mm (Millimeter) Kegelstumpf verarbeiten können. Die Diodensputterpistolen bieten hohe Sputterraten, was zu einer ausgezeichneten Filmgleichförmigkeit führt, wodurch das Werkzeug gut für großflächige Anwendungen wie Flachbildschirme und großflächige Metallmuster geeignet ist. GILITEK IBSV-1100-MC umfasst eine breite Palette von Sicherheits- und Komfortfunktionen, einschließlich Gasstrom-Sicherheitsverriegelungen, variable Steuerung und eine Vakuumanzeige für die Zieldruckregelung. Das Asset hält automatisch die Lücke zwischen der Sputterpistole und der Probe in einem konstanten Abstand für konsistente Ergebnisse. IBSV-1100-MC verfügt außerdem über ein integriertes Basisdruckmessmodell und eine geschlossene Druckregelung. GILITEK IBSV-1100-MC bietet sehr hohe Abscheidungsraten sowie hervorragende Folieneinheitlichkeit und Haftung. Das Gerät ist in der Lage, eine breite Palette von Materialien (einschließlich Metalle, Silikate und Oxide) auf verschiedenen Substraten wie Glas und Kunststoff abzuscheiden. Darüber hinaus kann das System auch mehrere Quellmaterialien und reaktive Gasmischungen aufnehmen und eignet sich somit für eine Reihe von Verfahren, wie elektrische und optische Dünnschichten. Abschließend ist IBSV-1100-MC eine fortschrittliche und zuverlässige Dual-Gun-DC-Diodensputtereinheit mit mittlerer Kapazität, ideal für eine Reihe von Dünnschichtabscheidungsprozessen und physikalischen Aufdampfprozessen. Seine zahlreichen Sicherheitsmerkmale und ausgezeichneten Abscheideraten, gepaart mit seiner großen Verarbeitungskammer und einer breiten Palette von anpassbaren Prozessen, machen es zu einer großen Wahl für jede Branche.
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