Gebraucht GS / LEYBOLD UNIVEX 350 G #293725240 zu verkaufen

ID: 293725240
Sputtering deposition system Sputter chamber (RF and DC) Spin coater Sluice (5) GS GLOVEBOX SYSTEMTECHNIK Glovebox Sputter deposition (RF and DC) MARIS DC Generator sputter ADVANCED ENERGY / DRESSLER CESAR 136 E/600W RF Generator sputter LEYBOLD TurboVac MAG Integra Turbopump sputter LEYBOLD ScrollVac SC30 D Pump Sputter  ADVANCED ENERGY / DRESSLER VM1000/1500 Platform Matchbox AE Vario match network HEWLETT PACKARD Laptop sputter P Pro Book Control cabinet: Switch cabinet: 1x 19" Operator panel Windows compatible Pump system Vapor deposition process Orifice Media and connections: Cooling water Compressed air supply Ventilation gas Vacuum chamber: Stainless steel chamber Stainless steel: Plates, Removable, chamber walls, Ceiling doors High-vacuum pump Pressure measuring range: 1000 to 5E-10 mbar Chamber ventilation Pressure safety switch Overpressure safety Turbomolecular pump DN 200 ISO-K Electropneumatic value Levitated turbomolecular pump Pumping speed: 1100 l/s Blocking: Gas, Venting Scroll vacuum pump Nominal pumping capacity: 30 m³/h RF/DC Sputtering: Clamping targets: 4" (Indirectly water-cooled) Bond targets: 4" (Directly water-cooled) Tiltable sputtering head Electro-pneumatic Orifice Chimney Direct gas DN 160 ISO-K Flange (2) Water flow monitor Process gas inlet Gas flow regulator Substrate rotation: Rotary drive Motor Control unit Single substrate: 150mm x 150mm Bayonet fitting Power supply: 400V, 3 Phase, 50Hz, +5%/ -10%, N / PE, 16A.
GS/LEYBOLD UNIVEX 350 G ist eine anspruchsvolle Sputterausrüstung für fortschrittliche Dünnschichtabscheidungsprozesse. Mit modernster Technologie und Präzisionstechnik bietet dieses System unvergleichliche Leistung und Vielseitigkeit auf kompakter Fläche. Ideal für Forschungs-, Entwicklungs- und Produktionsanwendungen in den Bereichen Mikroelektronik, Optik und Nanotechnologie liefert GS UNIVEX 350 G hochwertige Dünnschichten mit außergewöhnlicher Gleichmäßigkeit und Reproduzierbarkeit. Eines der Hauptmerkmale von LEYBOLD UNIVEX 350 G ist sein modulares Design, das eine einfache Anpassung und Skalierbarkeit ermöglicht, um spezifische Prozessanforderungen zu erfüllen. Die Einheit besteht aus mehreren Prozesskammern, die jeweils einer bestimmten Abscheidungstechnik wie Sputtern, Verdampfen oder Ionenstrahlabscheidung gewidmet sind. Diese modulare Konfiguration ermöglicht es Anwendern, die Maschine mit der gewünschten Kombination aus Abscheidungsquellen und Prozesssteuerungsoptionen zu konfigurieren und so maximale Flexibilität und Effizienz zu gewährleisten. Die Sputterkammer in UNIVEX 350 G ist mit hochmodernen Magnetron-Sputterquellen ausgestattet, die eine Vielzahl von Materialien abscheiden können, darunter Metalle, Halbleiter und Dielektrika. Das Tool nutzt fortschrittliche Plasmaerzeugungstechnologie, um ein hochgradig ionisiertes Plasma zu schaffen, was die Sputtereffizienz und die Folienqualität verbessert. Darüber hinaus verfügt GS/LEYBOLD UNIVEX 350 G über eine präzise Gasflusssteuerung, die eine genaue Abstimmung der Prozessparameter ermöglicht und konsistente Filmeigenschaften über die Substratoberfläche gewährleistet. Zur präzisen Steuerung des Abscheideprozesses ist GS UNIVEX 350 G mit einem ausgeklügelten Substrathalter ausgestattet, der eine gleichmäßige Filmabscheidung auf Substraten verschiedener Größen und Formen ermöglicht. Der Substrathalter kann erwärmt oder gekühlt werden, um die Filmwachstumskinetik zu steuern und die Filmeigenschaften zu optimieren. In Kombination mit einem umfassenden Prozessüberwachungs- und Regelungsmodell ermöglicht LEYBOLD UNIVEX 350 G den Anwendern eine präzise Kontrolle über wichtige Prozessparameter wie Abscheiderate, Foliendicke und Zusammensetzung. UNIVEX 350 G verfügt auch über eine fortschrittliche Vakuumausrüstung, die ultrahohe Vakuumverhältnisse in den Prozesskammern gewährleistet, die für die Abscheidung hochwertiger dünner Folien unerlässlich sind. Das System ist mit einer Hochleistungs-Turbomolekularpumpe und einer Kryopumpe zur schnellen Evakuierung der Kammern und zur Aufrechterhaltung niedriger Grunddruckniveaus während der Abscheidung ausgestattet. Die Vakuumeinheit ist vollautomatisch und kann so programmiert werden, dass sie vordefinierten Sequenzen für die Pumpenabwärts-, Entlüftungs- und Druckstabilisierung folgt und den Durchsatz und die Zuverlässigkeit der Maschine verbessert. In Bezug auf Benutzeroberfläche und Steuerung bietet GS/LEYBOLD UNIVEX 350 G eine benutzerfreundliche Softwareplattform, die eine einfache Programmierung und Bedienung des Tools ermöglicht. Die intuitive grafische Benutzeroberfläche bietet Zugriff auf alle Asset-Funktionen und -Parameter, so dass Benutzer benutzerdefinierte Ablagerungsrezepte einrichten, den Prozessfortschritt in Echtzeit überwachen und die Ablagerungsdaten nach dem Prozess analysieren können. Darüber hinaus ist das Modell mit fortschrittlichen Sicherheitsfunktionen und Diagnosetools ausgestattet, um einen reibungslosen Betrieb zu gewährleisten und Ausfallzeiten aufgrund von Gerätefehlern oder Fehlern zu vermeiden. Insgesamt ist GS UNIVEX 350 G ein vielseitiges und zuverlässiges Sputtersystem, das außergewöhnliche Leistung und Flexibilität für eine breite Palette von Dünnschichtabscheidungsanwendungen bietet. Von der Grundlagenforschung bis zur industriellen Produktion bietet diese Einheit die Werkzeuge und Fähigkeiten, die erforderlich sind, um eine präzise Kontrolle über Dünnschichteigenschaften zu erreichen und die anspruchsvollsten Prozessanforderungen zu erfüllen. Mit seinen fortschrittlichen Eigenschaften und seinem robusten Design setzt LEYBOLD UNIVEX 350 G einen neuen Standard für Sputtersysteme im Bereich der Dünnschichtabscheidung.
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