Gebraucht HITACHI E-1010 #293597935 zu verkaufen

Hersteller
HITACHI
Modell
E-1010
ID: 293597935
Ion sputtering system.
HITACHI E-1010 ist eine fortschrittliche PVD-Sputterausrüstung, die überlegene Technologie mit benutzerfreundlicher Bedienung kombiniert. HITACHI E1010 schließt eine Hochleistungsmikrowelle magnetron stotternde Pistole ein, die dazu fähig ist, Filme mit außergewöhnlichen Eigenschaften sogar auf schwierigen Substraten zu erzeugen. Sputtern ist ein physikalischer Dampfabscheidungsprozess, der auf dem Beschuss eines Zielmaterials durch energetische Teilchen wie Ionen oder Atome beruht. Durch diese Beschießung werden Atome des Zielmaterials auf das Substrat ausgestoßen, um einen gewünschten Film zu bilden. E-1010 nutzt hochfrequentes, hochleistungsgepulstes Magnetron-Sputtern für gleichmäßige und reproduzierbare Ergebnisse. Die Pistole ist in der Lage, ein- und gleichzeitig mehrschichtige Abscheidung mit bis zu vier unabhängigen Energiesystemen. Die Stromversorgungssysteme sind von 0-100% variabel, was den Benutzern die Möglichkeit gibt, Filmeigenschaften über einen Bereich unterschiedlicher Werte zu variieren. Diese Flexibilität ermöglicht Folien mit einer Reihe von Eigenschaften wie geringer Oberflächenrauhigkeit, überlegener Haftung und optischer Reflexion. E1010 verfügt über eine zweistufige Druckregelung bestehend aus einer äußeren Vakuumkammer mit einer inneren Druckkammer. Diese Einheit wurde entwickelt, um Kontaminationen zu minimieren und Ausgasungsprobleme bei der Abscheidung zu vermeiden. Die Maschine wird mit einem Elektronenstrom-Messgerät zur genauen Abscheidungsratensteuerung und -überwachung geliefert. HITACHI- E-1010 können Probengrößen bis zu 200mm handhaben, so dass es für eine breite Palette von Anwendungen geeignet ist. Es kann auch verwendet werden, um dünne Filme auf verschiedenen Substraten wie Glas, Quarz, Silizium und Metall abzuscheiden. HITACHI E1010 umfasst ein Fernüberwachungswerkzeug zur Überwachung von Druck, Temperatur und anderen Parametern während der Abscheidung. Das Asset ist Windows-kompatibel und verfügt über eine benutzerfreundliche, intuitive grafische Benutzeroberfläche. Das intelligente Modell ist so programmiert, dass es eine schnelle Befehlserkennung und eine prompte Ausführung ermöglicht. E-1010 verfügt über einen intuitiven Prozessrezept-Editor, mit dem Benutzer Prozesse anpassen und für die zukünftige Verwendung speichern können. E1010 ist eine ausgezeichnete Wahl für Anwendungen wie Halbleiter, Dünnschichttransistoren, Datenspeicher, Solarzellen und Brennstoffzellen. Mit HITACHI E-1010 lassen sich dünne Metall-, Metalloxid- und Materialkombinationen abscheiden. HITACHI E1010 liefert wiederholbare, konsistente Ergebnisse und ist damit eine gute Wahl für alle PVD-Anforderungen.
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