Gebraucht HITACHI E-1010 #293604647 zu verkaufen

HITACHI E-1010 ist eine Sputteranlage für die Metall- und Metalloxide-Dünnschichtabscheidung. Es ist weit verbreitet in Forschungsbereichen wie Präzisionsmikroelektronik, Optoelektronik, Nanotechnologie und Materialwissenschaft. Dieses System besteht in der Regel aus zwei Hauptkomponenten: der Sputterkammer und der physikalischen Bedampfungsquelle (PVD). Die Sputterkammer ist eine hermetisch abgedichtete Kammer mit einem Vakuumdruck von weniger als 8x10-5 mbar. Es enthält Kammern zur Verarbeitung und Materialübertragung, einen rotierenden Probentisch, einen Kollimator, einen massiven Filter und einen stationären Sockel. Der Probentisch kann bis zu fünf Vier-Zoll-Substrate aufnehmen und auf bis zu 350 ° C erwärmt werden. Mit einem Kollimator werden die gesputterten Ionen auf die auf dem Drehtisch platzierten Substrate fokussiert. Es ist ein massiver Filter installiert, um instabile Gasmoleküle herauszufiltern, die während des Sputtervorgangs erzeugt wurden. Die PVD-Quelle von HITACHI E1010 wird von einem Hochspannungs-25 A DC-Netzteil und einem Paar N2/O2 Gasversorgungssysteme mit Gasventilen gespeist. Die PVD-Quelle kann verwendet werden, um bis zu fünf verschiedene Zielmaterialien gleichzeitig zu sputtern und eine breite Palette von gesputterten Ionenenergien von wenigen eV bis zu mehreren keV zu erzeugen. Es kann Filme aus Aluminium, Chrom, Eisen, Gold und sogar Materialien auf Siliziumbasis sputtern. E-1010 hat eine einzigartige Eigenschaft, die als „einheitliche Flussverteilung“ bezeichnet wird, die sicherstellt, dass alle auf dem rotierenden Tisch platzierten Substrate gleichmäßig gesputterte Ionen erhalten. Darüber hinaus trägt seine Kühleinheit mit großer Kammerfläche und Kühlwasserkreislauf dazu bei, eine stabile Temperatur während des Betriebs aufrechtzuerhalten. Die Maschine verfügt auch über verschiedene Sicherheitsmerkmale wie Lecksuche, Druckregelung, Fernbedienung und Datenerfassung. Abschließend ist E1010 ein hochentwickeltes und zuverlässiges Sputterwerkzeug mit hervorragenden Funktionen, die sich perfekt für Forschungs- und Entwicklungsaktivitäten eignen. Mit seiner präzisen Ionensputtertechnologie, der einheitlichen Flussverteilung, der Temperaturregelung und den Sicherheitsmerkmalen bietet es Anwendern eine erstklassige Plattform, um ihre Forschungsaufgaben problemlos auszuführen.