Gebraucht HITACHI E-102 #9078351 zu verkaufen

HITACHI E-102 ist eine Sputterausrüstung, die entwickelt wurde, um dünne Filme gleichmäßig und mit großer Präzision auf einer Vielzahl von Substraten abzulegen. Dieses System verwendet einen einzigartigen Puls-DC-Sputterverfahren, um eine Größenordnung Verbesserung der Abdeckung, Gleichmäßigkeit und Wurzelmittelquadrat (RMS) Rauheit im Vergleich zu herkömmlichen Sputtersystemen zu erreichen. E-102 ist auf einer robusten Edelstahlkammer aufgebaut, die ein stationäres Aluminium-Target und eine verstellbare Halterung für die optisch klaren Kammerwände unterstützt. Diese Halterung bietet präzise Winkeleinstellung und eine Mittellinie Neigung, die Abscheidung Ungleichmäßigkeit durch Bogenentladungen zu reduzieren hilft. Der Puls-DC-Sputterprozess erzeugt ein hochenergetisches, weitflächiges Plasma am Target. Dieses Verfahren führt zu einer gleichmäßigen Abscheiderate, einer besseren Zielbeleuchtung und einer höheren Zielausnutzung im Vergleich zu herkömmlichen Sputtertechniken. Es minimiert auch die Abscheidungsungleichförmigkeit durch Bogenentladungen, da die höhere Leistung und gleichmäßigere Energetik von HITACHI E-102 Sputtern die Tendenz zum Auftreten von Bögen minimieren kann. Neben der präzisen Winkeleinstellung und der Mittellinienkippung bietet E-102 eine wiederholbare, voreingestellte Lichtbogenkonfiguration und kann je nach Zielmaterial mit hoher Leistung bis zu 20 kW laufen. Dies ermöglicht höhere Abscheideraten. HITACHI E-102 umfasst auch ein eingebautes Kühlgerät und ein Netzteil, das die Einrichtung und Wartung erleichtert. E-102 Steuerungsmaschine verfügt über eine webbasierte Schnittstelle zur Fernsteuerung und Überwachung von Prozessen und Status von überall auf der Welt. Dies ermöglicht eine einfache Optimierung von Sputterprozessparametern. HITACHI E-102 verfügt auch über ein patentiertes Duschkopf-Zielstützwerkzeug, das die Abscheidung von dünnen Schichten unterschiedlicher Dicke ermöglicht, ohne dass das Ziel neu positioniert werden muss. Dies bedeutet, dass E-102 dünne Filme im Bereich von wenigen Nanometern bis zu mehreren Mikrometern Dicke mit großer Präzision ablegen können. Auch HITACHI E-102 ist aufgrund der robusten Edelstahlkammerkonstruktion und der im Modell verwendeten hochwertigen Komponenten sehr zuverlässig. Die enge Abschirmung der Vakuumkammer dient zum Schutz der Arbeitsfläche und der optisch klaren Kammerwand, um Kontaminationen zu vermeiden. Insgesamt ist E-102 eine fortschrittliche Sputterausrüstung, die speziell für die Dünnschichtabscheidung entwickelt wurde. Es verwendet ein innovatives Puls-DC-Sputterverfahren, um qualitativ hochwertige und gleichmäßige dünne Filme mit höchster Gleichmäßigkeit und geringster Rauhigkeit abzulegen. Die voreingestellte Lichtbogenkonfiguration, die einstellbare Halterung und das eingebaute Kühlsystem erleichtern die Wartung und Optimierung des Prozesses. Und die Duschkopf-Zielstützeinheit ermöglicht eine präzise Dünnschichtabscheidung, ohne dass das Ziel neu positioniert werden muss. Insgesamt ist HITACHI E-102 eine vielseitige und zuverlässige Sputtermaschine zum Ablegen hochwertiger Dünnfolien mit hoher Präzision und Wiederholbarkeit.