Gebraucht HITACHI E-1030 #293638501 zu verkaufen

HITACHI E-1030 ist eine Sputter-Deposition-Ausrüstung, die entwickelt wurde, um hochwertige dünne Folien und Beschichtungen auf Oberflächen in einer Vielzahl von Industrien zu erstellen. Dieses System besteht aus einer Sputterpistole, einer Steuerung, einem Substrathalter und einer Prozesskammer. Die Sputterpistole besteht aus einer Anode, einer Kathode innerhalb der Prozesskammer und einer Vakuumpumpe. Die Anode besteht aus Kupfer, das einen inneren Faden enthält, und wird durch Elektronenbeschuss auf 1500 ° C bis 2500 ° C erhitzt. Die Kathode wird aus einem Targetmaterial hergestellt und durch den Elektronenbeschuss von der Anode auf Temperaturen von 1000 ° C bis 1 500 ° C erhitzt. Der Substrathalter ist an der Prozesskammer befestigt und während des Sputterabscheidungsprozesses für das Festhalten des Substrats verantwortlich. Der Regler dient zur Einstellung der Druck-, Spannungs- und Stromeinstellungen, um die Abscheiderate einzustellen. Die Prozesskammer ist eine abgedichtete Umgebung, die zur Erzeugung eines teilweisen oder vollständigen Vakuums eingestellt werden kann, um den Sputtervorgang zu erleichtern. E-1030 bietet eine Vielzahl von Konstruktionsmerkmalen für optimale Ergebnisse, einschließlich einer hohen momentanen Abscheidungsrate, einer ausgezeichneten Gleichmäßigkeit über das Substrat aufgrund eines homogenen Feldes und der Fähigkeit, mit einer Vielzahl von Materialien wie Metallen, Oxiden und Keramiken zu arbeiten. Das Gerät ist außerdem benutzerfreundlich und einfach zu bedienen. Es verfügt über ein einfaches Bedienfeld und eine digitale Anzeige zum Anzeigen der Prozessparameter und zum Ändern der Einstellungen nach Bedarf. Darüber hinaus ist es energieeffizient und kostengünstig, so dass es eine attraktive Option für Vakuumabscheidungsprozesse. Neben seinen Konstruktionsmerkmalen kann HITACHI E-1030 auch eine Vielzahl von Sputtertechniken wie Hochleistungsimpuls-Magnetronsputtern (HIPIMS) und Pulsglühentladung (PGD) durchführen. HIPIMS bietet eine höhere Abscheidungsrate als andere Sputterverfahren unter Beibehaltung einer hochwertigen, gleichmäßigen Beschichtung über dem Substrat. PGD ist ideal für Niedertemperaturanwendungen und kann verwendet werden, um dichte und leitfähige Beschichtungen zu erzeugen. Diese beiden Sputter-Methoden, zusammen mit allen anderen Abscheidungsfähigkeiten von E-1030, machen es zu einem leistungsstarken Werkzeug, um das gewünschte Ergebnis in einer Vielzahl von industriellen Prozessen zu erzielen. Insgesamt ist HITACHI E-1030 eine zuverlässige, benutzerfreundliche Sputtermaschine, die sich für hochwertige Dünnschichtabscheidungsprozesse in verschiedenen Branchen eignet. Mit seinen fortschrittlichen Konstruktionsmerkmalen, dem effizienten Betrieb und den vielseitigen Sputtertechniken ist dieses Tool ein ideales Werkzeug, um die gewünschten Ergebnisse auf kostengünstige und energieeffiziente Weise zu erzielen.