Gebraucht HITACHI E-1030 #293671277 zu verkaufen

HITACHI E-1030 ist eine Sputteranlage, die die Abscheidung von Dünnschichtmaterialien wie Metallen, Oxid, Nitrid und diamantartigem Kohlenstoff (DLC) auf Substraten ermöglicht, um Dünnschichtgeräte wie optische Beschichtungen, Datenträger und Elektronik herzustellen. Das System besteht aus einer Vakuumkammer, einer Sputterpistole, einer Elektronenstrahlpistole, einer Stickstoffvorläuferquelle, einer Gaseinlaßeinheit und einer mechanischen Pumpmaschine. Die Vakuumkammer von E-1030 ist oval geformt und mit Nickel und Aluminium beschichtet. Es ist mit einem Vier-Wege-Aussichtspunkt für Beobachtungs- und Reinigungszwecke ausgestattet. Die Kammer enthält eine Anordnung von Elektroden und einen aufblasbaren Beutel zum Halten des Substrats. Das Substrat kann durch Widerstandsheizung erwärmt werden und hat einen Temperaturbereich von Raumtemperatur bis 1000 Grad Celsius. Die Sputterpistole des Werkzeugs arbeitet, indem sie das Substrat mit Argonionen bombardiert. Diese Ionen bombardieren das Substrat, wodurch Atome des Zielmaterials ausgestoßen werden. Dieses Verfahren wird als Sputtersputtern bezeichnet und ist weit verbreitet für die Abscheidung von dicken Schichten. Die Pistole bietet auch ein anodisches Lichtbogenverfahren, das zur Erhöhung der Gleichmäßigkeit der Folienabscheidung nützlich ist. Die Elektronenstrahlkanone des Gerätes wurde entwickelt, um den Sputterprozess zu verbessern. Durch das Senden eines Elektronenstrahls auf das Substratmaterial trägt die Pistole dazu bei, die Gesamtabscheiderate des Films zu erhöhen und gleichzeitig die Schichtdicke ungleichmäßig zu minimieren. Die Stickstoffvorläuferquelle ist so ausgelegt, daß der abscheidenden Folie Stickstoff zugesetzt wird, um einen stickstoffreichen Nitridfilm zu erzeugen. Diese Folie ist in der Elektronikindustrie sehr wünschenswert, da sie eine höhere Dielektrizitätsfestigkeit und Korrosionsbeständigkeit aufweist. Das Gaseinlassmodell von HITACHI E-1030 soll die Einführung verschiedener Gasarten in die Kammer ermöglichen. Das Gerät besteht aus zwei Gaseinlässen und zwei getrennten Leitungen für jedes Gas. Auf diese Weise können verschiedene Gasgemische präzise gemischt werden, so dass spezielle Folien erzeugt werden können. Das mechanische Pumpensystem der Anlage ist so ausgelegt, dass das gewünschte Vakuumniveau der Kammer während des gesamten Abscheideprozesses aufrechterhalten wird. Die Maschine verwendet zwei Drehschieberpumpen und eine Stützpumpe, um das gewünschte Vakuumniveau zu erreichen. Die Stützpumpe wird verwendet, um den Druck aufrechtzuerhalten, während die Drehschieberpumpen verwendet werden, um die Kammer zu evakuieren und das erforderliche Vakuumniveau aufrechtzuerhalten. E-1030 ist ein zuverlässiges und effizientes Sputterwerkzeug, das die Abscheidung von hochgleichmäßigem Dünnschichtmaterial auf Substraten ermöglicht. Die Kombination aus Sputterpistole, Elektronenstrahlpistole, Stickstoffvorläuferquelle, Gaseinlassanlage und mechanischem Pumpenmodell machen es zu einem idealen Werkzeug für die Abscheidung von Dünnschichtstrukturen.