Gebraucht HITACHI E-1030 #9254425 zu verkaufen

HITACHI E-1030 ist eine Hochleistungs-Sputteranlage zur Entwicklung von Metall-, Halbleiter- oder Oxiddünnschichten. Ein Sputter ist ein Verfahren, bei dem dünne Filme auf Substraten abgeschieden werden, indem sie mit energetischen Partikeln beaufschlagt werden. Dieses System verwendet ein Ionenstrahl-unterstütztes Verfahren, um die Abscheidungsraten zu erhöhen und die Gleichmäßigkeit der Folie zu verbessern. Es ist in der Lage, hochpräzise dünne Filme für Displays, Solarzellen, MEMS und andere elektronische Komponenten zu erzeugen. E-1030 umfasst ein niederohmiges Hochfrequenznetzteil (RF), eine optische Überwachungseinheit und eine Ultrahochvakuumkammer (UHV). Das HF-Netzteil stellt eine leistungsstarke Stromquelle zur Verfügung, wodurch der gesamte Prozess in einem höheren Vakuum abgeschlossen werden kann, als dies normalerweise möglich ist. Dies verbessert die strukturelle und optische Qualität der aufgebrachten Folien. Die optische Überwachungsmaschine umfasst Kameras, die an jeder Substratstufe angebracht sind und eine Echtzeitbeobachtung des Abscheideprozesses und eine präzise Steuerung des Sputterprozesses ermöglichen. Die UHV-Kammer von HITACHI E-1030 verwendet eine schnell gekühlte Turbomolekularpumpe und eine Kombination aus Öl und SUS316L Elektroden, um Kontaminationen zu minimieren. Dadurch wird eine äußerst saubere Atmosphäre während des Abscheideprozesses aufrechterhalten. Die Kammer ist so konzipiert, dass sie einen Basisdruck von 5,0 × 10-9 Torr aufrechterhält und ein sauberes Vakuum bis zu 24 Stunden aufrechterhalten kann. E-1030 verwendet vier gleichmäßige Lasten, um die Aufprallkraft der gesputterten Ionen zu verteilen. Dadurch wird eine ausgezeichnete Materialgleichförmigkeit von Substrat zu Substrat gewährleistet. Die Lasten können Substrate bis zu 140mm Durchmesser aufnehmen und Substrate bis zu 3mm dick halten. Das Werkzeug verfügt über vier unabhängige Ziele, so dass vier verschiedene Materialien gleichzeitig gesputtert werden können. HITACHI E-1030 ist in der Lage, automatisierte Rezepte durchzuführen, um die Abscheidebedingungen für einen bestimmten Film genau zu definieren. Dies ermöglicht wiederholbare Abscheidungsergebnisse und gewährleistet eine zuverlässige Produktionsqualität. Es verfügt auch über ein selbstüberwachendes Asset, das Modellfehler erkennt und Warnmeldungen an den Bediener sendet. Insgesamt ist E-1030 eine Hochleistungs-Sputterausrüstung, die außergewöhnliche Materialgleichförmigkeit und wiederholbare Abscheidungsergebnisse liefert. Es ist ideal für Metalle, Halbleiter und Oxiddünnschichten und ist die perfekte Wahl für die Erstellung von Displays, Solarzellen, MEMS und anderen elektronischen Komponenten.