Gebraucht HITACHI E-201 #293816627 zu verkaufen

HITACHI E-201 Sputtergeräte sind ein hochmodernes Werkzeug zur Dünnschichtabscheidung. Es ist für Vielseitigkeit konzipiert, so dass Benutzer dünne Filme aus verschiedenen Materialien mit großer Genauigkeit und Gleichmäßigkeit ablegen können. Es ist eine ideale Wahl für eine Vielzahl von Anwendungen, wie die Herstellung von Dünnschichtstrukturen für Dünnschichttransistoren, magnetische Dünnschichten, Leiterbahnen und Kontaktschichten für MEMS/NEMS-Sensoren, optische Dünnschichten und andere mehrschichtige Dünnschichtstrukturen. E-201 Sputtersystem verwendet unausgewogenes Magnetron-Sputtern zur Dünnschichtabscheidung. Diese Methode des Sputterns wird als eine der qualitativ hochwertigsten Dünnschichtabscheidungsprozesse angesehen, die die höchste Bandbreite an Schichtdicken und größere Gleichmäßigkeit über große Flächen zur Verfügung stellt. Dieses Merkmal macht es sehr geeignet für die Herstellung von hochwertigen Dünnschichtgeräten. Das HITACHI E-201 Sputtergerät verfügt über ein leistungsstarkes, aber benutzerfreundliches Bedienfeld, mit dem Benutzer Parameter für die Prozesssteuerung einstellen können. Es enthält auch einfach zu bedienende Dünnschichtabscheidungszubehör und ein „Rezept“ Controller für wiederholbare, genaue Dünnschichtabscheidung. Die Maschine ist mit einem aktiven digitalen Temperaturregler ausgestattet, der präzise und konsistente Temperaturen für gleichmäßiges Dünnschichtwachstum liefert. Darüber hinaus verwendet das Werkzeug auch einen Manometer, um den Druck innerhalb der Kammer während des Abscheideprozesses zu messen. Diese wichtige Funktion trägt dazu bei, optimale Filmwachstumsbedingungen zu gewährleisten, die Abscheidungsrate zu maximieren und einheitliche Zusammensetzungen zu gewährleisten. E-201 Sputteranlage umfasst ein Vakuummodell mit einer hochwertigen vierflügeligen Turbomolekularpumpe, mit der der Anwender schnell und zuverlässig hervorragende Abscheidungsergebnisse erzielen kann. Ebenfalls enthalten ist eine zuverlässige externe rotierende Zielbaugruppe, mit der Benutzer das Zielmaterial ohne Vakuumpumpen wechseln können. Mit der rotierenden Zielbaugruppe können auch Zielmaterialien, die nicht mit HF-Sputtern kompatibel sind, mit HITACHI E-201 Sputtergeräten verwendet werden. E-201 Sputtersystem enthält auch einen ferngesteuerten Gasinjektor zur präzisen Gasflussregelung. Dieses Feature sorgt für eine hohe Gleichmäßigkeit der Folien, so dass der Anwender dünne Filme höchster Qualität erzielen kann. Das Gerät verfügt auch über mehrere Konfigurationen für Zielmaterial, so dass eine Vielzahl von Materialien abgelegt werden. Darüber hinaus bietet die in der HITACHI E-201 Sputtermaschine enthaltene Prozesssteuerungsbibliothek Anwendern eine einfache und zuverlässige Bedienung. Die Bibliothek bestimmt die Steuereinstellungen, die für die Ablage von dünnen Filmen aus verschiedenen Materialien erforderlich sind. Diese Bibliothek kann auch um individuelle Rezepte zum Ablegen von Filmen mit spezifischen Eigenschaften für jede Anwendung erweitert werden. E-201 Sputterwerkzeug ist ein vielseitiges und zuverlässiges Werkzeug für die Dünnschichtabscheidung und bietet Anwendern hochwertige Folien auf effiziente und zuverlässige Weise. Es bietet eine komplette Sputterlösung, die die Flexibilität und Genauigkeit von unausgewogenem Magnetron-Sputtern mit der Zuverlässigkeit und Wiederholbarkeit eines gut konzipierten Geräts kombiniert.