Gebraucht INNOTEC VS-24C #9097901 zu verkaufen
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ID: 9097901
RF Magnetron deposition system
Chamber (DxH): 24" x 12"
Target: Aluminum oxide (Al2O3 ), 12"
(5) Silicon wafer size tooling systems, 6"
Dual instrument rack, 19"
(2) CTI Cryo-Torr 8 Cryopumps, 8"
Cable
Conductance valve
CTI 8300 Compressor with 8001 Controller
Magnetron source with RF Match system, 14"
MKS Vacuum gauge with valve and process control system
Temperature and thickness control
Electro pneumatically actuated valve
VCS Vacuum system controller
VSC RS-232 Sense analog and digital signal
Does not include load lock
RF Matching power supply: 2 kW
Working hours: 2000 Hours.
INNOTEC VS-24C ist eine leistungsstarke Sputteranlage, die in Dünnfilmbeschichtungsanwendungen eingesetzt wird. Es ist so konzipiert, dass es großflächig einheitliche Folien bereitstellt und dünne Folien auf einer breiten Palette von Materialien wie Metallen, Oxiden, Nitriden und Legierungen abscheiden kann. Die Sputterpistole besteht aus einer Anodenelektrode, einem enerVac Vakuumanschluss, einer Isolationsbeschichtung und einem Targethalter. An die Anode wird ein Hochspannungsimpuls angelegt, der Ionen aus dem Zielmaterial erregt und erzeugt und zum Substrat hin beschleunigt. Die Ionen treffen auf das Substrat und legen das Zielmaterial als dünnen Film ab. Die Sputterpistole kann entweder im Gleichstrom- oder Hochfrequenzbetrieb betrieben werden. Im DC-Modus werden die Ionen kontinuierlich beschleunigt, im HF-Modus werden die Ionen gepulst beschleunigt. Das System verfügt über eine patentierte Ionenquelle mit magnetfeldunterstützter gleichmäßiger Plasmaverteilung, was die Gleichmäßigkeit der dünnen Filme verbessert hat. Die HF-Quellengröße kann auch je nach Größe und Form der Applikation eingestellt werden, um die Gleichmäßigkeit der dünnen Folien weiter zu verbessern. Das Gerät ist mit einem Lastschloss ausgestattet und unterstützt eine Reihe von Substraten bis zu 8 „im Durchmesser und 4“ in der Höhe. Es hat einen 4 "Zielhalter mit einer Option der vorderen oder hinteren Beladung. Der Substrathalter kann auf 200 ° C erwärmt werden. Die Maschine ist mit thermisch gesteuerten Wänden ausgelegt, um die Erwärmung des Substrats zu reduzieren und die thermische Beanspruchung dünner Filme zu verringern. Es hat auch ein Not-Aus-Werkzeug, um Vermögensschäden durch extreme Stromstöße zu verhindern. VS-24C ist ein modulares Modell und kann problemlos in andere Module für Plasmaätzen, Ionenreinigung und andere plasmabezogene Prozesse integriert werden. Es eignet sich gut für Dünnschichtbeschichtungsanwendungen in der Automobil-, Medizin- und Elektronikindustrie.
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