Gebraucht KDF 943ix #293808893 zu verkaufen

KDF 943ix stotternde Ausrüstung ist ein innovatives dünnes Filmabsetzungswerkzeug, das für dünne Hochleistungsfilmüberzuganwendungen im Halbleiter, der Mikroelektronik, der Optik und den Nanotechnologienindustrien entworfen ist. Dieses System kombiniert fortschrittliche Sputtertechnologie mit Präzisionssteuerung und Automatisierungsfunktionen, um überlegene Dünnschichtqualität, Gleichmäßigkeit und Wiederholbarkeit zu bieten. Im Kern von 943ix befindet sich eine Magnetron-Sputterquelle, die ein Magnetfeld verwendet, um die Sputtereffizienz und Abscheidungsrate zu verbessern. Das Gerät ist mit mehreren Zielpositionen ausgestattet, wodurch verschiedene Materialien, wie Metalle, Legierungen und Oxide, auf Substrate unterschiedlicher Größe und Form aufgebracht werden können. Die Targets bestehen aus hochreinen Materialien, um eine qualitativ hochwertige Abscheidung und minimale Kontamination zu gewährleisten. KDF 943ix verfügt über eine Dual-Mode-Sputterfunktion, die sowohl DC- als auch RF-Sputtermodi für optimale Prozessflexibilität und Materialkompatibilität ermöglicht. Der DC-Sputtermodus wird üblicherweise für metallische und leitende Materialien verwendet, während der HF-Sputtermodus für dielektrische und isolierende Materialien bevorzugt ist. Die Maschine ist mit unabhängigen Stromversorgungen für jede Sputterquelle ausgestattet, die eine präzise Steuerung der Abscheidungsparameter wie Zielleistung, Gasfluss und Druck ermöglichen. Eine der wichtigsten Stärken von 943ix ist sein fortschrittliches Prozesskontrollwerkzeug, das Echtzeit-Überwachungs- und Rückkopplungsmechanismen umfasst, um eine genaue Filmdicke, Zusammensetzung und Einheitlichkeit sicherzustellen. Die Anlage ist mit In-situ-Überwachungstechniken wie optischer Emissionsspektroskopie (OES) und Quarzkristall-Mikrobalance (QCM) ausgestattet, um den Abscheidungsprozess in Echtzeit zu überwachen und notwendige Anpassungen on-the-fly vorzunehmen. Diese Echtzeit-Prozesssteuerungsfähigkeit ermöglicht dem Modell enge Prozesstoleranzen und hohe Folienqualität. Neben der Prozesssteuerung ist KDF 943ix für die Hochdurchsatzfertigung mit automatisierten Substrathandhabungs- und Positioniersystemen konzipiert. Das Gerät verfügt über ein Mehrkammerdesign, das sequentielle Abscheideprozesse ohne manuelle Substratübertragung ermöglicht. Das Substrathandhabungssystem gewährleistet eine präzise Ausrichtung und Positionierung der Substrate, minimiert Kanteneffekte und verbessert die Gleichmäßigkeit der Gesamtbeschichtung. Darüber hinaus ist 943ix mit einer Reihe fortschrittlicher Funktionen ausgestattet, um die Prozesseffizienz und Zuverlässigkeit zu verbessern. Dazu gehören In-situ-Heiz- und Kühlmöglichkeiten für die temperaturgesteuerte Abscheidung, reaktive Sputterfähigkeit für die Abscheidung von Verbundfolien und eine Hochvakuumpumpeinheit zur Erzielung ultrahoher Vakuumbedingungen. Die Maschine bietet auch Optionen für Substratdrehung, Neigung und Planetenbewegung, um die Filmeigenschaften und die Gleichmäßigkeit weiter zu verbessern. Abschließend ist das KDF 943ix Sputterwerkzeug ein vielseitiges und leistungsstarkes Werkzeug für Dünnschichtabscheidungsanwendungen in verschiedenen Branchen. Mit seiner fortschrittlichen Sputtertechnologie, der präzisen Prozesssteuerung und Automatisierungsfunktionen ermöglicht das Asset Anwendern höchste Dünnschichtqualität, Einheitlichkeit und Wiederholbarkeit für eine breite Palette von Materialien und Anwendungen.