Gebraucht KURT J. LESKER Pro Line PVD 75 #9113549 zu verkaufen

KURT J. LESKER Pro Line PVD 75 ist eine Hochleistungs-Sputteranlage für die Halbleiterproduktion. Das kompakte Layout und die automatisierte Steuerung machen es zu einer idealen Lösung für den industriellen Einsatz. Es ist in der Lage, anodische und kathodische Beschichtungen aus verschiedenen Materialien und Dicken sowie andere Substratmodifikationen zu erzeugen. Pro Line PVD 75 integriert eine Hochleistungs-Gleichstromquelle (DC), eine zweidimensionale motorisierte Stufe, eine Festkörper-Stromversorgung und ein vollständiges Steuermodul. Der DC-Stromversorgungsbereich ist von 1,2 bis 50 kW einstellbar und ermöglicht unterschiedliche Substratheizertemperaturen. Die mit einem digitalen Auslesesystem ausgerüstete motorisierte Stufe ermöglicht eine präzise und wiederholbare Steuerung der Substratposition. Zusätzlich wird für den Sputterprozess ein HF-Generator verwendet. Die Prozessparameter, einschließlich Substrattemperatur, Vorabscheidung, Sputterleistung und Gasdruck, können über das Steuermodul eingestellt und alle Informationen digital angezeigt werden. Das SPI-75 umfasst außerdem eine lastgesperrte Abscheideeinheit und einen drehbaren Zielhalter. Die Maschine ist in der Lage, eine Vielzahl von Zielmaterialien und in verschiedenen Größen unterzubringen. Es ist auch ein Inertgasförderwerkzeug integriert, das die Abgabe höherer Drücke unter minimaler Kontrolle der Verschmutzung ermöglicht. KURT J. LESKER Pro Line PVD 75 wurde entwickelt, um eine qualitativ hochwertige Abscheidung über eine Vielzahl von Anwendungen zu erreichen. Die Prozessparameter können angepasst werden, um die Projektanforderungen zu optimieren und kontinuierlich qualitativ hochwertige Ergebnisse zu gewährleisten. Die Anlage ist zudem mit einer Einrichtung zur statistischen Prozesskontrolle ausgestattet, die eine Inline-Rückmeldung zu Ertrag, Qualität und Partikelverunreinigung ermöglicht. Pro Line PVD 75 ist ein sehr leistungsfähiges Sputterwerkzeug, das effizient und zuverlässig eine Vielzahl von Abscheide- und Substratänderungsprozessen durchführt. Seine hohe Automatisierung und ausgefeilte Steuerungsfunktionen machen es hocheffizient und liefern die konsistentesten Ergebnisse der heutigen fortschrittlichen Prozesstechnologie.