Gebraucht KURT J. LESKER PVD 75 #293608381 zu verkaufen

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ID: 293608381
Thin film deposition system.
KURT J. LESKER PVD 75 ist eine präzise und zuverlässige Sputteranlage, die optimale Leistung und Ergebnisse bei der Vakuumabscheidung liefert. Es verwertet ein 2.75-zölliges magnetron Vakuum stottern Prozess, um verschiedene Überzüge auf die Oberfläche von Substraten abzulegen. Das System ist mit einer Basis konstruiert, die bis zu zwei Magnetron-Sputter-Targets aufnimmt. Die beiden Targets können für unterschiedliche Prozesse, wie Dual-Layer-Sputtern und Sputtern von Rückwärtsschichten, zur präzisen Abscheidungssteuerung konfiguriert werden. Der Sputterprozess wird von einem fortschrittlichen Netzteil angetrieben. Der Generator verfügt über vollständig einstellbare und geregelte Stufe Leistungssteuerung Modul, die präzise Prozesssteuerung. Die einstellbare Pulsfrequenz bietet eine hohe Produktivität, während eine integrierte automatische Pumpensteuerung für einen reibungslosen Betrieb sorgt. Das Sputterwerkzeug ist außerdem mit einer Schutzkollisionserkennung ausgestattet, die die Ziele vor Stößen und anderen Beschädigungen schützt. Darüber hinaus verfügt PVD 75 über ein seitliches Zugriffsfenster, das das Wechseln zwischen Zielen oder das Ändern von Prozessparametern mit reduzierten Ausfallzeiten erleichtert. Weitere Merkmale von KURT J. LESKER PVD 75 sind ein robustes Sicherheitsmodell mit Absperrsensoren und mehreren Alarmen, eine hohe Leistung pro Stunde/geringes Verbrauchskostenverhältnis und eine umfangreiche On-Board-Diagnose. Die Ausrüstung ist so konzipiert, dass sie höchsten Ansprüchen an Zuverlässigkeit, Genauigkeit und Energieeffizienz genügt. Abschließend liefert PVD 75 Sputtersystem überlegene Ergebnisse für Vakuumabscheidungsprojekte. Von seiner fortschrittlichen Stromversorgungseinheit und der einstellbaren Pulsfrequenz bis zu seiner integrierten automatischen Pumpensteuerungs- und Kollisionserkennungsmaschine ist das Werkzeug so konzipiert, dass es maximale Leistung und Zuverlässigkeit gewährleistet.
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