Gebraucht KURT J. LESKER PVD 75 #293778253 zu verkaufen
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ID: 293778253
Weinlese: 2006
Physical Vapor Deposition (PVD) system
Vacuum chamber with multiple ultra-high vacuum (UHV) ports
CTI 8200 Compressor
CTI CRYO-TORR 8F Vacuum pump
SIGMA INSTRUMENTS SQC-122C Controller
ULVAC Scroll pump
MAPS Electronic Vacuum Processor (EVP) Power supply
MAPS Ion source controller, 3"
(3) Thermal boat
Connecting cable
No electron beam (E-beam) source
No magnetron
Chamber capacity: 75 liters
2006 vintage.
KURT J. LESKER PVD 75 ist eine Desktop-Sputteranlage, die speziell für die Durchführung von Dünnschichtbeschichtungsprozessen entwickelt wurde und sowohl für Anwendungen mit niedriger als auch hoher Rate verwendet werden kann. Es bietet eine effektive Plattform für Anwender, um hochwertige Metall-, Keramik- und Verbundfolien herzustellen. Dieses Sputtersystem besteht aus einer Vakuumkammer, einer Verarbeitungszone, einer Stromversorgung und verschiedenen peripheren Komponenten. Die Vakuumkammer, der Hauptbestandteil von PVD 75, besteht aus einem Metalltiegel und einer Fensteranordnung, die von einem Hochleistungs-Keramiksubstrathalter unterstützt wird. Es enthält auch eine einzigartige automatische Pumpeinheit, die die Einhaltung der gewünschten Druckniveaus innerhalb der Vakuumkammer unterstützt. Die Verarbeitungszone umfasst eine Steuerbox und ein Paar Zielhalter zum gleichzeitigen Halten von zwei Sputterquellen. Die interne Stromversorgung sorgt für eine präzise Energiezufuhr der Sputterquellen, so dass Anpassungen an die Art der hergestellten Folie vorgenommen werden können. KURT J. LESKER PVD 75 verfügt auch über eine fortschrittliche Steuerungsmaschine mit einem benutzerfreundlichen Touchscreen-Display, mit dem Regisseure alle Aspekte des Tools mit Leichtigkeit steuern können. Es bietet Benutzern die Möglichkeit, die Vorspannung, das Leistungsniveau und die Druckeinstellungen manuell anzupassen. Darüber hinaus umfasst es erweiterte Diagnose- und Fehlererkennungs-Tools, um sicherzustellen, dass der Prozess reibungslos und effizient abläuft. Die Anlage ist zudem kompakt, leicht und leicht transportierbar. Als solches kann es sowohl für Anwendungen mit niedriger als auch hoher Rate verwendet werden, wie die Herstellung hochwertiger Brillenteile oder die Herstellung von Komponenten für die Luft- und Raumfahrt- und Automobilindustrie. Es ist auch mit einer Reihe anderer Prozessleitsysteme kompatibel, was eine bessere Anpassung und Optimierung des Beschichtungsprozesses ermöglicht. Insgesamt bietet PVD 75 eine zuverlässige Plattform für Anwender, um eine Vielzahl von Dünnschichtabscheidungsprozessen durchzuführen. Sein benutzerfreundliches Steuerungsmodell, automatisierte Autopumpgeräte und sein robustes Design sorgen dafür, dass alle Prozesse effizient und präzise abgeschlossen werden können. Mit seinem breiten Spektrum an Peripheriekomponenten bietet es dem Anwender weitere Möglichkeiten, seine Prozesse anzupassen und zu optimieren.
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