Gebraucht KURT J. LESKER PVD 75 #9164257 zu verkaufen

ID: 9164257
Thin film deposition system P/N: PEDP75TCCNN003 Source: Thermal Load: (2) Boats (Not both in parallel) Chamber internal dimensions: 14" x 14" x 24" CTI 8200 Compressor CTI CRYO-TORR 8F High-vacuum pump ULVAC GLD-201b Vacuum pump Trillium cryopump Material evaporated: Ni.
KURT J. LESKER PVD 75 ist eine Sputterabscheidungseinrichtung, die mechanische, optische, elektrische und magnetische Filme auf Substraten abscheiden kann. Das System nutzt vier unabhängig gesteuerte Sputter-Targets von 75 mm bis 150 mm Durchmesser, die die Abscheidung von bis zu vier verschiedenen Materialien gleichzeitig ermöglichen. PVD 75 verwendet eine Triodensputterpistole, um inerte Gase (am häufigsten Argon) auf das Zielmaterial zu lenken, wodurch Oberflächenmaterial ausgeworfen und auf Substrate in der Kammer gesammelt werden kann. Die Targets sind in einer Lastschloßkammer untergebracht, um einen leichten Zielzugang zu ermöglichen und eine Verschmutzung von Kammer und Substraten zu minimieren. Der Grunddruck des Lastschlosses bleibt bei 6 x 10-6 Torr, wenn das Gerät nicht in Gebrauch ist. KURT J. LESKER PVD 75 verfügt auch über eine computergesteuerte Steuerung mit einem 19-Zoll-Touchscreen, mit dem Benutzer einfach durch die Maschinenfunktionen navigieren können. Das Steuerungstool enthält menügesteuerte Einstellungen für Prozessinformationen, Prozessrezept-Informationen, Asset-Status, Support-Tools, Datenprotokollierung, Datenport-Konnektivität und andere benutzerdefinierte Funktionen. Der Sputterabscheidungsprozess findet unter Vakuum statt, und das Modell bietet eine außergewöhnliche Vakuumleistung. Der niedrigste erreichbare Druck ist 5x10-5 Torr. Eine Turbomolekularpumpe, unterstützt durch eine Kombination einer membranmechanischen Pumpe, gibt PVD 75 schnelle Pumpenausfallzeiten mit einem Druckanstieg von nicht mehr als 2x10-5 Torr in weniger als fünf Minuten. KURT J. LESKER PVD 75 enthält eine integrierte Probenheizung, die bis zu 500 Grad Celsius Substrattemperatur ermöglicht. Das System ermöglicht auch eine präzise Steuerung von Substrat und Zielabstand für eine gleichmäßige Abscheidung. Die Verriegelungseinheit dieser Sputtermaschine ist darauf ausgelegt, die Bauteile vor Schäden durch Überspannung oder Übertemperaturbelastung zu schützen. PVD 75 verfügt zudem über ein umfangreiches Sicherheitswerkzeug mit Fehlererkennung und Alarmfunktionen. KURT J. LESKER PVD 75 ist eine zuverlässige, hochmoderne Sputteranlage, die sich ideal für eine Vielzahl von Sputterabscheidungsanwendungen eignet. Die kompakte Bauweise, die integrierten Heiz- und Sicherheitssysteme und die schnellen Ausfallzeiten machen es zu einer idealen Wahl für Forschung und industrielle Anwendungen.
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