Gebraucht KURT J. LESKER PVD 75 #9218896 zu verkaufen

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ID: 9218896
Weinlese: 2011
Thin film deposition system Base system: PVD 75 Base deposition system Process equipment options: MAGNETRON Sputtering: (3) Torus 3-source flange assemblies Sputtering source power supplies: (2) KURT J. LESKER 300W RF With auto match network KURT J. LESKER 1kW DC Substrate fixturing: Substrate fixture: (Top mount, base unit, add for options) Primary rotation Process gas inlet: Upstream pressure control Film thickness monitor or control: Film thickness monitor System control / Automation: Recipe driven computer control 2011 vintage.
Die KJL KURT J. LESKER PVD 75 Sputteranlage ist ein hochleistungsfähiges, industrielles Dünnschichtabscheidungssystem zur Beschichtung einer Vielzahl von Materialien. Es verwendet die physikalische Dampfabscheidungstechnologie (PVD), um dünne Schichten aus Metall auf einem Substrat abzuscheiden, wodurch Beschichtungen entstehen, die dauerhaft, korrosionsbeständig und elektrisch leitfähig sind. Die Einheit ist in der Lage, Filme aus fast jedem Zielmaterial zu produzieren, einschließlich Edelstahl, Titan, Kupfer, Nickel, Chrom und mehr. PVD 75 weist eine Quellmaterialkammer mit 2 „Durchmesser und eine Prozesskammer mit 2“ Durchmesser auf. Die Stromversorgung für die Quellenmaterialkammer wird über eine Wechselstromversorgung mit variabler Frequenz mit einstellbarer Ausgangsspannung und Strom zur genauen Steuerung der Abscheiderate bereitgestellt. KURT J. LESKER PVD 75 verwendet einen elektrostatisch ausgewogenen Shuttle plus eine speziell entwickelte HF-Sputterpistole, die den Materialaufbau auf dem Substrat reduziert und die Abscheidungsgleichmäßigkeit erhöht. Eine automatisierte Steuerungsmaschine bietet Präzisionskontrolle über Sputterparameter, einschließlich Leistung, Gasdruck, Substrattemperatur und Quellmaterialtemperatur. PVD 75 verfügt auch über einen Onboard End of Deposition Sensor, der die Leistung des Sputterprozesses überwacht und eine automatische Abschaltung ermöglicht, wenn der Prozess nicht optimal läuft. Neben den eingebauten Funktionen bietet KURT J. LESKER PVD 75 auch eine Reihe optionaler Zubehörteile, darunter eine Elementarquelle mit 2 "-Durchmesser, mit der das Werkzeug eine Vielzahl elementarer Zielmaterialien sputtern kann, und eine Hochleistungsrotationsquelle, die die Gleichmäßigkeit über das Substrat erhöht. PVD 75 ist auch in der Lage, Unterschichten zur Adhäsionsverbesserung, Schutzschichten für Korrosionsbeständigkeit und leitfähige Metallschichten abzuscheiden. Das Asset ist vielseitig und leistungsstark, was es zu einer attraktiven Wahl für industrielle Sputteroperationen macht. Es ist auch einfach einzurichten und zu bedienen, so dass es eine ideale Wahl für diejenigen, die mit Sputtersystemen nicht vertraut sind.
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