Gebraucht KURT J. LESKER PVD 75 #9241893 zu verkaufen
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Verkauft
ID: 9241893
Thin film sputtering system
PVD Process chamber:
D-Shaped 304 SS, 24" high x 14" wide
Volume: 75 liters
Large access & replaceable view port
O-Ring sealed
Front access door
Flexible process ports
304L Stainless steel with 6061 aluminium hinged door
Vacuum pumping:
CTI-8F 1500 Cryopump
Compressor
3-Position pneumatic isolation gate valve
Touchscreen controller / PC Control
Oil-sealed mechanical rough pump: 5.7 CFM
Fore line valve
Dry roughing pump
Fore line trap
Mist eliminator
Roughing valve
Vacuum gauging:
Wide range vacuum gauge (Ion gauge & Pirani)
Mounting / Connection hardware
Adapters
Cabinet & framework:
Closed system support frame
Power distribution
Leveling pads
Cabinet construction carbon steel
Gray powder coat finish
Water manifold includes:
System components: Water distribution
Critical components: Interlocked flow switches
Shut off valves
NPT Connection, 1"
TEK-TEMP Recirculating water chiller, 6 gpm, 10000 Btu, 60 PSI
Sputtering source:
(3) MAGNETRON Sputtering source flange assemblies
(4) MAGNETRON Sputter cathodes
O-Ring sealed compression fittings: Source-to-substrate distance
Pneumatic driven deposition source shutter
Power supply:
KJLC 600 W RF Power supply with automatic matching network & control panel
(2) ADVANCED ENERGY DC Power supplies, 1.5 kW
Rack mount kits & connection cables
Top mounted custom substrate:
Single substrate, 12"
20 rpm
Stainless steel substrate holder:
Diameter: ¼"
High substrates: ¼"
Substrate heating & control:
Temperature: 350°C
Quartz Lamp / Resistive element
Process gas inlet / Upstream pressure control:
(2) MKS 1179 Flow controllers
MKS Baratron 626A Pressure transducer, 100 mTorr
Vent & purge pressure regulators
Film thickness monitor and optional control:
Quartz Crystal thickness monitor with single crystal head
Manual system control:
Touch screen controller: Button pump down & vent
Valves & shutter assemblies
Manual front panel control of power supplies
Switches
Full automatic process control
Graphical User Interface (GUI):
Vacuum screen display: Valve position & pump status
Vacuum status
Deposition screen:
Indicate shutter position
Deposition source status
Source material & target life log
Gas screen:
Mass flow controller modes
Indicate gas valve status
Display of pressure control settings & values
Motion screen display & input:
Speed & velocity profiles
PID Control parameters
Cooling screen: Water flow switch interlock status
Heating screen: Heater set points & control parameters
Turbo pump pressure (CDE): 5 x 10^-7 Torr
Power distribution:
Single service drop: 208 VAC, 30 A, 1 Phase
Component wiring: Centralized power distribution panel
EMO Protection
Safety interlocks
Power supply: 208 VAC, 3 Phase, 60 A.
Die KJL KURT J. LESKER PVD 75 ist eine Sputteranlage aus der Produktfamilie der physikalischen Dampfabscheidung (PVD). PVD 75 bietet eine Vielzahl von Abscheide-, Ätz- und Oxidationsanwendungen. Es ist für große Substrate mit einem Durchmesser von bis zu 12 Zoll ausgelegt. Der modulare Aufbau des Sputtersystems ermöglicht eine einfache und kostengünstige Anpassung an Anwendungen. KURT J. LESKER PVD 75 verfügt über einen sieben Grad einheitlichen Neigungswinkel, der Flexibilität für leistungsstarke Anwendungen ermöglicht. Der Einsatz der Evactron Plasma-Reinigungstechnologie von KJL gewährleistet eine präzise Behandlung von Wafern und Substraten, was zu hohen Ausbeuten führt. Die automatisierte Prozesssteuerungsmaschine des Geräts ermöglicht schnelle und wiederholbare Produktionsprozesse. PVD 75 enthält auch ein hochpräzises Wärmebildwerkzeug zur Gleichmäßigkeitskontrolle. Die Wärmebildanlage ermöglicht die Charakterisierung und Optimierung des Abscheidungsprozesses. Das Modell bietet auch eine optionale variable Druckfunktion, die eine größere Kontrolle über den Abscheideprozess ermöglicht. KURT J. LESKER PVD 75 verfügt über eine robuste Vakuumkammer, Vakuumpumpe und Abgasanlage, die alle für die Prozesswiederholbarkeit optimiert sind. Der Vakuumraum zeigt ein Titanaluminium keramischer zerlegbarer Aufbau, Leistung und Zuverlässigkeit maximierend. Das System umfasst auch einen Vakuum-Gas-Entlüftungsadapter, der eine manuelle Entlüftung der Kammer ermöglicht. PVD 75 ist für den Betrieb in einer Reinraumumumgebung der Klasse 1.000 konzipiert. Das Gerät umfasst eine Reihe benutzerfreundlicher Funktionen, einschließlich einer Touchscreen-Bedienoberfläche, intuitiven Benutzermenüs und Prozessrezeptauswahl. Die Maschine ist auch mit einer Reihe von TCP/IP-Netzwerkprotokollen kompatibel, so dass mehrere KURT J. LESKER PVD 75-Einheiten fernbedient werden können. Insgesamt ist das KJL PVD 75 ein fortschrittliches Sputterwerkzeug, das den Anforderungen der anspruchsvollsten Ablagerungs- und Ätzanwendungen gerecht wird. Der modulare Aufbau des Asset ermöglicht Flexibilität und Wirtschaftlichkeit, während sein automatisiertes Prozesssteuerungsmodell präzise und wiederholbare Produktionsprozesse gewährleistet. Das Gerät bietet zudem eine robuste Vakuumkammer, Pumpe und Auspuffanlage sowie eine Reihe benutzerfreundlicher Funktionen, die eine einfache Bedienung und Steuerung ermöglichen.
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