Gebraucht KURT J. LESKER Ultra-high vacuum induction annealing tool #293818957 zu verkaufen
URL erfolgreich kopiert!
Tippen Sie auf Zoom
ID: 293818957
Wafergröße: 8"
8"
Load lock
Gas inlets
Real-time controller (RTC)
PFEIFFER Turbomolecular pump, VAT
3-Position pneumatically actuated isolation gate valve
PFEIFFER Turbo pump
EDWARDS Roughing pump nXDS10
Dedicated turbo pump
Control arm
Automated heavy duty linear transfer arm (LRP)
Effector
Mock wafer holder
Ports and windows
UI Screens
AMBRELL Heating power source
(1) FUJIKIN FCST1000F Flow controller
(1) INFICON CDG025D Capacitance manometer.
KURT J. LESKER Ultrahochvakuum-Induktionsglühwerkzeug ist ein modernes Sputtergerät, das in der Halbleiterindustrie für eine Vielzahl von Anwendungen wie Dünnschichtabscheidungs-, Glüh- und Materialmodifizierungsprozesse eingesetzt wird. Dieses fortschrittliche Tool integriert modernste Technologien, um überlegene Leistung und Zuverlässigkeit in UHV-Umgebungen zu bieten. Kern des Systems ist die Induktionsglühfunktion, die eine präzise Steuerung des Heiz- und Glühprozesses von Materialien bei Ultrahochvakuum ermöglicht. Induktionsheizung ist ein hocheffizientes Verfahren, das elektromagnetische Induktion nutzt, um Wärme innerhalb des Materials ohne physikalischen Kontakt zu erzeugen, was zu gleichmäßiger Erwärmung und minimaler thermischer Belastung des Substrats führt. Dies ermöglicht eine präzise Temperaturregelung und Reproduzierbarkeit, die für Glühprozesse in der Halbleiterherstellung wesentlich sind. Die Sputtermöglichkeiten des KURT J. LESKER Tools bieten eine außergewöhnliche Vielseitigkeit in Dünnschichtabscheidungsprozessen. Sputtern ist eine physikalische Dampfabscheidungstechnik (PVD), bei der Atome oder Moleküle aus einem Zielmaterial ausgestoßen werden, indem sie mit energetischen Ionen bombardiert werden. Diese ausgestoßenen Partikel werden dann unter Bildung eines dünnen Films mit kontrollierter Dicke und Zusammensetzung auf ein Substrat abgeschieden. Die Einheit ist mit mehreren Zielmaterialien ausgestattet, die die Abscheidung komplexer Mehrschichtstrukturen und Legierungszusammensetzungen ermöglichen. Die im Werkzeug aufbewahrte UHV-Umgebung gewährleistet einen sauberen und kontaminationsfreien Prozess, indem das Vorhandensein von reaktiven Gasen und Verunreinigungen minimiert wird. Dies ist entscheidend für die Erzielung hochwertiger Dünnschichten mit hervorragenden elektrischen, optischen und strukturellen Eigenschaften, die in Halbleiterbauelementen benötigt werden. Die ultrahohen Vakuumbedingungen erleichtern zudem eine verbesserte Haftung und Foliendichte, was zu einer verbesserten Folienqualität und Zuverlässigkeit führt. Darüber hinaus verfügt KURT J. LESKER über fortschrittliche Automatisierungs- und Steuerungsfunktionen, die die Effizienz und Reproduzierbarkeit von Dünnschichtabscheidungsprozessen verbessern. Das Tool ist mit anspruchsvollen Überwachungs- und Rückkopplungssystemen für die Echtzeit-Prozesssteuerung ausgestattet, die eine präzise Einstellung von Abscheidungsparametern wie Abscheiderate, Filmdicke und Gleichmäßigkeit ermöglichen. Dies gewährleistet eine gleichbleibende Folienqualität und Dicke über Substrate und Chargen, die für Anwendungen in Großserien von entscheidender Bedeutung sind. Die benutzerfreundliche Oberfläche des Werkzeugs ermöglicht es dem Bediener, Abscheideprozesse einfach zu programmieren und zu überwachen und eignet sich somit sowohl für Forschungsumgebungen als auch für Produktionsumgebungen. Darüber hinaus ist das Werkzeug mit robusten Sicherheitsmerkmalen ausgelegt, um den Bedienerschutz zu gewährleisten und Schäden am Gerät während des Betriebs zu verhindern. Abschließend ist das Ultra-High-Vacuum-Induktionsglühwerkzeug ein hochmodernes Sputtermodell, das außergewöhnliche Leistung, Zuverlässigkeit und Vielseitigkeit für eine breite Palette von Halbleiteranwendungen bietet. Mit seinen fortschrittlichen Funktionen, präzisen Steuerungsfunktionen und der UHV-Umgebung bietet dieses Tool Benutzern die Werkzeuge, die sie benötigen, um hochwertige dünne Filme zu erzielen, die für die Entwicklung modernster Halbleiterbauelemente unerlässlich sind.
Es liegen noch keine Bewertungen vor