Gebraucht LEYBOLD Helios 2100 #293601797 zu verkaufen
Es sieht so aus, als ob dieser Artikel bereits verkauft wurde. Überprüfen Sie ähnliche Produkte unten oder kontaktieren Sie uns und unser erfahrenes Team wird es für Sie finden.
Tippen Sie auf Zoom


Verkauft
ID: 293601797
Sputtering system
Targets:
(4) Silicon
(2) NiCr
(2) NbTa
(2) TiTaAI
Turbo pumps:
TPH 1501 UP
TC100
8-Position for 4" deposition
3D Glass tube deposition.
LEYBOLD Helios 2100 ist eine Dual-Magnetron-Sputterausrüstung zur Beschichtung von großflächigen Substraten. Dieses System verfügt über zwei unabhängige Magnetronquellen und bietet eine höhere Prozessflexibilität und einen höheren Durchsatz als Single-Source-Dual-Target-Systeme. Es ermöglicht auch eine breite Palette von Materialien und Anwendungen, einschließlich Halbleiter, Optik, Displays und Verpackung. Helios 2100 verwendet eine Dual-Magnetron-Quelle mit einem 0,5-4,0 kW Netzteil zur Präzisionsfilmabscheidung. Die integrierten DC-Magnetron-Sputterquellen verfügen über eine integrierte Prozesssteuerung für Gleichmäßigkeit und Wiederholbarkeit, und das Gerät enthält eine integrierte Wafer-Temperaturüberwachungsmaschine. Die Quellen können auf und ab bewegt werden, um bis zu drei Substratgrößen aufzunehmen und weisen einen verstellbaren vertikalen Spalt zwischen Substraten auf. Das Tool verfügt außerdem über einen integrierten Prozesscontroller, eine automatische Bedienung, ein 10-Punkte-Wafer-Mapping-Element sowie eine rezept- und parametersparende Funktion. LEYBOLD Helios 2100 hat ein robustes Design, das eine einfache Wartung und Reinigung ermöglicht. Das Gehäuse wurde entwickelt, um Kontaminationen und Ausfallzeiten zu reduzieren. Das Modell bietet auch eine Vielzahl von Optionen, um seine Sputter-Beschichtungsfunktionen zu erhöhen, wie die DC-Plasmaquelle, HF-Leistung, Blindsputtern und Multilevel-Sputtern. Die integrierten gepulsten DC, Hohlkathode und „Twin Target“ Magnetron-Sputterquellen bieten überlegene Filmgleichförmigkeit und erhöhte Abscheidungsraten. Helios 2100 bietet eine Reihe von Prozesssteuerungs- und Schutzfunktionen wie Leistungssteuerung, Wasserkühlung und Gleichstromversorgung. Die Soft-Start-Ausstattung ermöglicht eine nahtlose Integration mit Anlagenautomationssystemen und das umfassende Softwarepaket macht es einfach, den Prozess vom PC aus zu überwachen. Das System umfasst auch Sicherheitsmerkmale, wie automatische Abschaltung, wenn Betriebsbedingungen vorgegebene Grenzen überschreiten. Abschließend ist LEYBOLD Helios 2100 eine leistungsstarke und zuverlässige Sputtereinheit für großflächige Substrate. Es bietet überlegene Folieneinheitlichkeit und Wiederholbarkeit sowie eine breite Palette von Prozess- und Schutzfunktionen, um einen sicheren und effizienten Betrieb zu gewährleisten.
Es liegen noch keine Bewertungen vor