Gebraucht LEYBOLD HERAEUS A550 VZK #9097914 zu verkaufen

LEYBOLD HERAEUS A550 VZK ist eine Sputteranlage - eine Art Beschichtungstechnologie, mit der einheitliche, dünne Filmschichten auf den Oberflächen von Materialien erzeugt werden. Dieses System wird verwendet, um qualitativ hochwertige, gleichmäßige Beschichtungen auf fast jeder Form (flach, gebogen oder komplexe Objekte) abzuscheiden. Es ist in der Lage, mit einer Vielzahl von Materialien zu arbeiten, darunter Metalle, Oxide, Halbleiter, organische Filme und dielektrische Materialien. A550 VZK-Sputtereinheit besteht aus mehreren Komponenten, darunter Kathode (Sputtermaterialquelle), Substrat (Sputtermaterial) und einem Vakuumgehäuse. Die Kathode besteht typischerweise aus dem gleichen Material wie die zu zerstäubende Beschichtung und wird in die Sputterkammer eingelegt und aktiviert. Substratmaterialien werden auf eine Sputterstufe gelegt, wo Hochspannungsnetzteil verwendet wird, um ein elektrisches Feld zu erzeugen, um Elektronen zum Kathodenmaterial hin zu beschleunigen. Wenn die Elektronen auf das Kathodenmaterial treffen, ionisieren sie das Material und erzeugen einen Ionenbeschuss, der Materialatome physikalisch in die Vakuumkammer austreibt. Sobald diese Atome das Substrat erreichen, lagern sie eine dünne Beschichtung des gewünschten Materials ab. Die Dicke der abgeschiedenen Schicht kann durch Variation der Ionenenergie, des Winkels, unter dem sich das Substrat befindet, und der Dauer des Sputtervorgangs genau gesteuert werden. LEYBOLD HERAEUS A550 VZK Sputtermaschine ist sehr zuverlässig und vielseitig einsetzbar und ermöglicht eine schnelle und effiziente Abscheidung von Beschichtungen auf einer Vielzahl von Materialien. Es erfordert einen relativ geringen Stromverbrauch und ist leicht tragbar. Das Werkzeug wurde speziell entwickelt, um eine geringe Umweltbelastung zu erzielen, wobei flüssige stickstoffgekühlte Targets verwendet werden, um eine relativ hohe Arbeitstemperatur aufrechtzuerhalten. Insgesamt ist A550 VZK-Sputteranlage eine ideale Wahl für die Herstellung gleichmäßig dünner Filmschichten auf einer Vielzahl von Materialien. Es bietet ein effizientes und sehr zuverlässiges Abscheideverfahren für eine breite Palette von Materialien und ist ideal für kleine und große Produktionsläufe.