Gebraucht LEYBOLD HERAEUS Z400 #9363002 zu verkaufen

Hersteller
LEYBOLD HERAEUS
Modell
Z400
ID: 9363002
Weinlese: 1982
Sputtering system (3) Cathodes RF Mode Maximum sample size: 3" Number of targets: 3 Reactive gases: Ar, O2 Compressed air pressure: 7 to 9 Bars Water pressure: 4 to 7 Bars Substrate bias: Maximum -150 V Substrate heater: Maximum 500°C Base pressure: <2 x 10^-5 mBar Generator: Type: IGD 0.5/13500 Power: 0.5 kW, 220 V, 50 Hz DC Power supplies: 500 W RF Power supplies: 600 W Power supply: 220 V, 50 Hz, 25 Amps 1982 vintage.
LEYBOLD HERAEUS Z400 Sputterausrüstung ist ein hochspezialisiertes Gerät, das in einer Vielzahl von verschiedenen Branchen verwendet wird. Es ist ein Vakuumabscheidungssystem, das üblicherweise bei der Herstellung von Dünnschichten verwendet wird, wie sie bei der Herstellung von mikroelektronischen Komponenten, Solarzellen und anderen Dünnschichttechnologien verwendet werden. Z400 ist einzigartig in seiner Fähigkeit, Ablagerungen hoher Dichte mit einer gleichmäßigen Dicke und Dotierung zu erreichen, während auch eine ausgezeichnete Prozesskontrolle und Zuverlässigkeit. LEYBOLD HERAEUS Z400 besteht aus drei Hauptkomponenten: Stromversorgung, Vakuumkammer und Abscheidungsquelle. Die Stromversorgung umfasst zwei Hochspannungsausgänge, einen für Gleichstrom (DC) und den anderen für Wechselstrom (AC). Der DC-Ausgang wird verwendet, um Sputtern mit Ar oder Xe zu steuern, während der AC-Ausgang verwendet wird, um Ionenbeschuss zu steuern, auch bekannt als ionengestützte Abscheidung. Die jedem Ausgang zugeordneten Hochspannungspotentiale und Frequenzen sind einstellbar, was eine größere Prozesssteuerung und Manipulation ermöglicht. Die Vakuumkammer besteht aus einer Grenzfläche zwischen Prozessgas und Abscheidungsquelle. Hier wird das Vakuumniveau aufrechterhalten, wobei sowohl reaktives als auch nicht-reaktives Gas in die Kammer eingeleitet werden kann. Dieser Abschnitt enthält auch den Port, der zum Einbringen von Zielmaterialien in die Einheit erforderlich ist. Die Abscheidungsquelle ist, wo das Zielmaterial platziert und auf das darunter liegende Substratmaterial gesputtert wird. Auf Z400 wird eine rotierende Trommelsputtermaschine verwendet, um eine gleichmäßige Abscheidung mit hoher Dichte zu erreichen. Dieses Werkzeug enthält auch Quarzfenster, die eine beschleunigte Quellenabbrandfähigkeit ermöglichen, während der Kammerdeckel mit einer Elektronenkanone für Substratreinigungs- und Ionenbeschussverfahren ausgestattet ist. LEYBOLD HERAEUS Z400 ist ein fortschrittliches, zuverlässiges Sputtermodell, das eine beispiellose Prozesskontrolle und Anlagenleistung bei der Abscheidung von dünnen Folien für eine Vielzahl von Anwendungen bietet. Seine Kombination aus rotierendem Trommelsputtern, Ionenbeschuss und umfangreicher Prozesskontrolle machen es zu einem idealen Werkzeug für die Herstellung einer optimalen Filmabscheidung.
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