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LEYBOLD Star ist eines der fortschrittlichsten und zuverlässigsten Photolacksysteme auf dem Markt. Star kombiniert die Kombination aus modernster Optik und computergesteuerter Photoresist-Technologie und bietet die höchste Auflösung vergleichbarer Geräte. LEYBOLD Star verwendet hochpräzise Optik, um Photolackmaterialien mit hoher Genauigkeit genau anzupassen. Das einzigartige Design ermöglicht die Platzierung von Fotolack in extrem kleinen Größen. Dies ermöglicht die Erzeugung komplizierter Muster mit einer extrem hohen Genauigkeit. Diese Kombination von Eigenschaften macht Star für die Entwicklung von hochkomplexen und komplizierten Designs geeignet. LEYBOLD Star verfügt über computergesteuerte Photoresist-Technologie. Dieses intelligente System richtet den Photolack präzise über die unterschiedlichsten Abmessungen aus. Dies sorgt für optimale Ausbeuten und hervorragende Musterreproduzierbarkeit. Darüber hinaus ermöglicht die fortschrittliche Computersteuerung die schnelle und präzise Entwicklung komplizierter und komplexer Designs. Stern-Einheit bietet benutzerfreundliche Bedienung und kann einfach für eine Vielzahl von Druckanwendungen konfiguriert werden. Es bietet auch Rückkopplung auf Photolackmuster und hat die Fähigkeit, die Photolackstrukturierungsparameter einzustellen. Diese Kombination von Eigenschaften macht es zu einer zuverlässigen, genauen und kostengünstigen Maschine für die Entwicklung und Produktion von anspruchsvollen elektronischen Designs. LEYBOLD Star ist zudem mit einer leistungsstarken, aber benutzerfreundlichen Softwareschnittstelle ausgestattet, mit der Anwender schnell komplexe Muster und Designs erstellen können. Darüber hinaus ermöglicht die ausgeklügelte Softwarefähigkeit eine automatisierte Maskenausrichtung und unterstützt die Entwicklung kompliziertester Designs und Muster. Star ist ein äußerst kostengünstiges Photolackwerkzeug, das höchste Auflösung, Präzision und Genauigkeit bietet. Die Kombination aus fortschrittlicher computergesteuerter Optik und benutzerfreundlicher Software sorgt dafür, dass das Asset für die anspruchsvollsten Anwendungen für die Musterentwicklung und -produktion geeignet ist.
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