Gebraucht MAGNETRON Line #9027880 zu verkaufen

MAGNETRON Line
Hersteller
MAGNETRON
Modell
Line
ID: 9027880
Sputtering deposition line for ITO glass: (2) Industrial computers and PLC systems Metalizes transparent electric conductive film on glass Vacuum magnetron sputtering deposition technology Dual cathodes MF sputtering technology and international advanced control system Deposits SiO2 / ITO on the float glass Process is automatically controlled in series.
Eine MAGNETRON-Linie ist eine Art Sputtersystem, das in die Klasse der physikalischen Dampfabscheidungsprozesse (PVD) fällt. Diese Systeme verwenden eine Hochleistungsquelle elektromagnetischer Energie, typischerweise als MAGNETRON bezeichnet, um wahlweise Material in Form eines Dampfes auf eine Zieloberfläche zu sputtern. Diese Energiequelle ist in einer Vakuumkammer enthalten, durch die das abgeschiedene Material dann durch die kombinierte Kraft von MAGNETRON und Vakuumdruck angetrieben wird. MAGNETRON-Quelle bietet einen stabilen und wiederholbaren Sputterprozess sowie einen hohen Durchsatz, weshalb sie für großflächige konforme Abscheidungs- und Beschichtungsanwendungen so beliebt ist. MAGNETRON-Linien sind auch in einer Vielzahl anderer industrieller Prozesse wie Automobil- und Luftfahrtkomponenten sowie Medizinproduktekomponenten weit verbreitet. MAGNETRON-Leitungen verwenden eine MAGNETRON-Stromversorgung, um das zerstäubte Material zu erzeugen und an die Substratoberfläche zu senden. Diese Hochleistungsversorgung erzeugt innerhalb der Vakuumkammer ein magnetisches Wechselfeld, das eine Reihe von Abwärtsplasmen erzeugt, die unterhalb der Substratoberfläche eine Elektronenwolke bilden. Die Elektronen werden dann innerhalb des Plasmas durch das magnetische Wechselfeld beschleunigt und bilden einen sogenannten ioneninduzierten Zielmaterialbeschuss. Das zerstäubte Material wird dann aufgrund des von den Elektronen- und Ionenströmen aufgebrachten Drucks auf das Substrat übertragen. Der Vorteil des MAGNETRON-Sputterns besteht darin, dass der Materialtransfer aufgrund der stabilen Energiequelle von MAGNETRON relativ gleichmäßig und wiederholbar ist. Außerdem kann das Material auch bei hohen Substrattemperaturen gut auf dem Substrat haften. Diese Technologie ist auch wegen ihrer breiten Palette von Abscheideraten nützlich - hoch bei niedrigeren Temperaturen und niedrig bei höheren Temperaturen. Insgesamt ist Line Sputtering ein zuverlässiges und kostengünstiges Beschichtungssystem, das in mehreren Branchen für Beschichtungs- und Dünnschichtabscheidungsanwendungen weit verbreitet ist. Es ist in der Lage, dünne Materialschichten genau und wiederholt auf einem Substrat abzuscheiden, um sicherzustellen, dass die Endprodukte von höchster Qualität sind.
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