Gebraucht MEIVAC / ALCATEL / COMPTECH 2460 #50094 zu verkaufen

ID: 50094
Sputtering system, turbo and cryo pump replaced Electrical rack with original operating system (window 2000 and Wonderware with GE 90-30) SST Chamber with motor drive lid Four pockets He backside 6" wafer notch (or custom) 10 KW/Matching Network RFPP for target 2 KW/Matching Network RFPP for substrate He backside gas with pressure control Pumping: Turbo pump and water pump package with ISO 250 Flange. QDP40 Dry Pump foreline 17” Target backing plate Currently disassembled and in parts.
MEIVAC/ALCATEL/COMPTECH 2460 Sputterausrüstung ist ein Halbleitermetallisierungssystem, das entwickelt wurde, um extrem dünne Schichten von Metallfilmen bei niedrigen Temperaturen auf verschiedenen Substratmaterialien abzuscheiden. Diese Einheit verwendet Teildrücke von Prozessgasen und eine negative Gleichsputterstromversorgung, um hochgleichmäßige Filme mit enger Kontrolle der Oberflächenrauhigkeit und Dicke zu erzeugen. Die Sputtermaschine nutzt eine einzigartige Form, um Filme zu bilden, die perfekt auf die Herstellung fortschrittlicher Halbleiterbauelemente zugeschnitten sind. MEIVAC 2460 bietet eine außergewöhnliche Kontrolle und Flexibilität über die Struktur und Zusammensetzung der Dünnschichtschichten. Diese Schichten werden mit hochreinen Reaktantgasen und einem Triodenkathoden-Plasma hergestellt, das sich am besten für die Niedertemperatur- und Feinleitungsmetallisierung eignet. Das Plasma wird durch Anlegen einer Hochspannung durch eine mit den Reaktionsgasen gefüllte Reaktionskammer gebildet, wodurch eine ionenreiche Umgebung geschaffen wird, die ideal zur Dünnschichtabscheidung geeignet ist. ALCATEL 2460 Sputterwerkzeug ist mit einem rotierenden Substrattisch ausgestattet. Dies ermöglicht einen hohen Durchsatz und ist sowohl in Winkel- als auch in Radialpositionen einstellbar. Dadurch wird eine Gleichmäßigkeit und Wiederholbarkeit der Dünnschichtschichten über alle Substrate gewährleistet. Die COMPTECH 2460 ist ferner mit einem Kammerkanteninjektor für höhere Sputterraten ausgestattet. 2460 erzeugt extrem gleichmäßige Filme durch strenge Steuerung des Flußprofils auf dem Substrat, was zu geringen Ladeeffekten, guter Haftung und deutlich verbesserter Haltbarkeit führt. Darüber hinaus verfügt MEIVAC/ALCATEL/COMPTECH 2460 über ein hochgleichmäßiges negatives Gleichstromnetzteil, das eine hervorragende Erosionskontrolle und Anpassung der Sputterleistung an die Substratkartierung bietet. Es weist auch einen fortgeschrittenen Prozessgasbehälter auf, so dass während seines Betriebs eine optimale Reinheit und ein optimaler Druck des Prozessgases aufrechterhalten werden können. MEIVAC 2460 Sputteranlage hat viele Anwendungen, einschließlich OLED-Herstellung, Dünnschichttransistoren, magnetische Aufzeichnungsmedien, plasmonische und optoelektronische Bauelemente. Dank seiner fortschrittlichen Steuerung und Flexibilität bietet ALCATEL 2460 unschlagbare Leistung, Zuverlässigkeit und anpassbare Optionen.
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