Gebraucht MRC 602 #9008360 zu verkaufen

MRC 602 ist eine multifunktionale Sputterausrüstung von Wenzhou Keda Vacuum Technology Co., Ltd. Es ist entworfen, um dünne Filme von Beschichtungsmaterialien auf Substraten abzuscheiden. Das System besteht aus einem Ultrahochvakuum-Basistank, zwei Sputterkammern, zwei Backkammern und einer mehrfarbigen Ethernet-Bedieneinheit. Der Ultrahochvakuum-Basistank wird verwendet, um die Sputterkammer vorzupumpen und die Kammer auf ein Vakuumniveau von weniger als 10-4 Pa. zu backen. Dieses Vakuum wird dann vom Basistank isoliert, um separate unabhängige Kammern zu schaffen. Die beiden Sputterkammern sind mit sieben vakuumbeständigen Edelstahlleitblechen ausgestattet, die eine präzise Kontrolle der Ultrahochvakuumbedingungen ermöglichen. Die Kammern sind außerdem mit einer aktiven Kühlmaschine zur gleichmäßigen Erwärmung/Kühlung während der Sputterbearbeitung ausgestattet. Die Doppelsputterkammern sind mit 13-positionierten Hochleistungs-Magnetron-Sputterquellen ausgestattet. Diese Sputterquellen sind in der Lage, Abscheidungsraten von 0,05 bis 10 Nanometer pro Minute zu erzeugen, was eine präzise Dünnschichtbeschichtung von Substraten ermöglicht. Darüber hinaus sind die Quellen mit einer unabhängigen Wechselstromquelle ausgestattet, sodass sowohl hohe als auch niedrige Leistungseinstellungen für mehr Flexibilität und Stabilität angepasst werden können. Die beiden Backkammern dienen zur Erhöhung der Substrattemperatur auf bis zu 300 ° C während der Sputterbearbeitung. Dies ermöglicht eine größere Temperaturkontrolle und ermöglicht auch die Verarbeitung einer größeren Anzahl von Sputtermaterialien. Die backen Räume werden auch mit einem Thermoelementfeedbackkontrollwerkzeug ausgestattet, das schnellere und genauere Temperaturkontrolle während stotternder Prozesse erlaubt. Schließlich wird das mehrfarbige Ethernet-Betriebsmittel zur Steuerung des Sputtermodells verwendet. Dazu gehören die Präzisionskontrolle der Sputterquellen, die Backkammertemperatur und der Ultrahochvakuum-Basistank. Auf diese Weise kann der Benutzer die Geräteeinstellungen schnell und einfach an seine jeweiligen Anforderungen anpassen. Insgesamt ist 602 ein fortschrittliches, sehr vielseitiges Sputtersystem. Seine Eigenschaften und präzise Steuerung gewährleisten eine genaue Dünnschichtabscheidung von Beschichtungen auf Substraten. Darüber hinaus sorgt der Einsatz fortschrittlicher Technologien wie Ultrahochvakuum, Hochleistungs-Magnetron-Sputterquellen und Thermoelement-Feedback-Steuerungssysteme für überlegene Leistung und Zuverlässigkeit.