Gebraucht MRC 603 II #9353542 zu verkaufen

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Hersteller
MRC
Modell
603 II
ID: 9353542
Sputtering system Cryo-torr vacuum pump With air-cooled compressor unit Loadlock Pallets, 13"x13" Targets mounted plates: Ti, Al and SiCr Bonding plates Forepump damaged Manuel and spare parts included Power supply: 208 V, 3 Phase.
MRC 603 II ist eine Sputterausrüstung für Hochleistungsabscheidung durch Sputterabscheidung. Dieses hochmoderne System bietet eine hervorragende Gleichmäßigkeit und Stabilität bei hoher Schichthaftung für eine Vielzahl von Anwendungen. Es hat die folgenden Funktionen: 1. Vakuumkammer - Die Vakuumkammer besteht aus Edelstahl mit minimalem Vakuumniveau von 10-7 Torr. Es enthält sechs unabhängig voneinander gesteuerte Zielstationen mit verstellbaren Formhaltern, die eine einfache Ausrichtung auf den Substraten entsprechend der gewünschten Form der Sputterziele ermöglichen. 2. Substrat Rotation - MRC 603-II Einheit ermöglicht es, das Substrat in jede Richtung oder Drehrichtung zu sputtern. Das Substrat wird durch einen bürstenlosen Motor gedreht, der eine zuverlässige Leistung gewährleistet. 3. Automatisierte Zielauswahl - Mit einer automatisierten Zielauswahlmaschine werden die genauen Sputterparameter wie Puls-Verweilen und Breite ermittelt. Es ermöglicht dem Benutzer auch die Auswahl der Substratgröße, Zieldicke und Prozesszeit für jede Schicht. 4. Theta-2 Motor - Dieses Gerät ermöglicht es dem Substrat, sich auf einem Bogen nach oben oder unten zu bewegen, um den Zielbereich auf dem Substrat mit dem Sputterziel auszurichten. 5. Hochleistungs-Bipolarquelle - Diese Quelle wurde entwickelt, um eine effiziente Ziel-Substrat-Adhäsion zu ermöglichen, indem ein gleichmäßiges Plasmafeld mit hoher Dichte bereitgestellt wird. Diese Quelle erzeugt eine längere Ionisationspfadlänge und eine höhere Ionenstromdichte, was zu einer größeren Haftung zwischen dem Target und dem Substrat führt. 6. Automatische Druckregelung - Diese Funktion verwendet einen Mikroprozessor, um den Werkzeugdruck automatisch zu steuern. Der Vakuumdruck kann leicht durch Ändern der Einstellungen am Regler verändert werden. 7. Vakuum- und Asset Failure Protection - 603 II Serie kommt mit einem Vakuumpumpen-Controller und einem Not-Aus, um den Benutzer vor potenziellen Gefahren während des Sputtervorgangs zu schützen. Abschließend ist 603-II ein leistungsstarkes Sputtermodell, das präzise und wiederholbare Ergebnisse erzielen kann. Es ist für den industriellen Einsatz konzipiert und verfügt über eine Reihe von Sicherheitsmerkmalen zum Schutz von Benutzern und Geräten. Es ist eine ideale Wahl für eine Vielzahl von Abscheide- und Sputteranwendungen.
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