Gebraucht MRC 603 III #9248081 zu verkaufen

MRC 603 III ist eine vakuumbasierte Sputterausrüstung, die von Oxford Instruments entworfen und hergestellt wurde. Es ist ein fortgeschrittenes physikalisches Dampfabscheidungssystem (PVD), das zur Abscheidung von dünnen Schichten in Halbleiter- und verwandten Industrien verwendet wird. MRC 603-III ist eine Acht-Kammer-Magnetron-Sputtereinheit, die vollständig integriert und für hochwertige Beschichtungsleistungen optimiert ist. Es verfügt über eine einzigartige Dual-State-Magnetron-Sputterpistole Konfiguration, die Dünnschichtqualität zu maximieren hilft. Die Maschine umfasst außerdem eine Lastschloßkammer, eine Hochleistungs-Turbo-Molekularpumpe (TMP) und ein integriertes Vakuum-Prozessüberwachungswerkzeug. Es ist in der Lage, verschiedene Materialien bei hohen Abscheideraten zu zerstäuben und bietet eine überlegene Abdeckung von großflächigen Anwendungen. 603 III verwendet eine Vielzahl von hochleistungsfähigen reaktiven Gasen und Zielmaterialien zur Abscheidung. Die Anlage ist mit elektromagnetischen Abschirmungen ausgestattet und bietet Platz für bis zu vier Magnetrons gleichzeitig. 603-III umfasst eine breite Palette proprietärer Prozesskontrolltechnologien wie fortschrittliche Temperaturregelung, Gasflussregelung und verbesserte Homogenität von abgelagertem Material. Das Modell gewährleistet auch maximale Wiederholbarkeit des Abscheidungsprozesses durch automatisiertes Be- und Entladen von Substraten und konsistentes Substrat, um die Wiederholbarkeit zu substratisieren. Neben einer großen Auswahl an Temperatur-, Drehzahl-, Druck- und Vakuumkontrollmaßnahmen bietet MRC 603 III eine hervorragende Prozesskonsistenz und bietet qualitativ hochwertige Abscheideprozesse für eine Vielzahl von Substraten wie Metall, Kunststoff, Glas, Keramik und andere Spezialwerkstoffe. Darüber hinaus verfügt das Gerät über erweiterte Steuerungs-, Überwachungs- und Diagnosefunktionen für Teilsysteme. Alle Prozessparameter können einfach überwacht werden und bieten jederzeit genaue Daten über die Systemleistung und den Prozesszustand. MRC 603-III verfügt auch über fortschrittliche Touchscreen Human-Machine Interface (HMI) für Dateneingabe, Prozessüberwachung, Einheitendiagnose und Prozesssteuerung. Abschließend ist 603 III eine fortschrittliche kostengünstige Sputtermaschine, die überlegene Dünnschichtleistung bietet. Mit seinem starken Merkmalssatz eignet sich das Werkzeug hervorragend für die großflächige Abscheidung und Herstellung hochwertiger dünner Filme mit wiederholbaren Prozessergebnissen.