Gebraucht MRC 603 #166780 zu verkaufen

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Hersteller
MRC
Modell
603
ID: 166780
In-line sputter system Features 3 Planar magnetron targets RF & DC sputter capability Cryo pumped.
MRC 603 ist eine Magnetron-Sputterausrüstung, die von Advanced Energy Industries, Inc. für den Einsatz bei der Abscheidung von dünnen Filmen entwickelt wurde. Dieses System ist mit zwei DC-Magnetron-Quellen ausgestattet, die dynamisches Kreuzfeld-Magnetron-Sputtern unter Anwendung des Langmuir-Child-Gesetzes erzeugen. Dabei werden Partikel des Targetmaterials gesputtert und kollidieren mit einem Substrat, wodurch sich ein dünner Film auf dem Substrat bildet. 603 Einheit ist entworfen, um eine Vielzahl von Substraten zu behandeln, einschließlich Metalle und halbisolierende Materialien. Es bietet die Vorteile des niedrigen Stromverbrauchs, reduzierte Maschinenkosten und erhöhte Sputterabscheidungsrate. Dieses Tool verfügt über eine integrierte automatisierte Endpunkterkennung und Steuerung, wodurch die manuelle Überwachung des Sputterprozesses entfällt. MRC 603 kann mit zwei ultravioletten (UV) Lichtquellen konfiguriert werden, die eine konstante Lichtleistung mit hoher Intensität bereitstellen. Dieses Licht wird dann von einer Projektionslinse auf das Abscheidungsziel fokussiert. Durch diesen Prozess wird das Targetmaterial dem UV-Licht ausgesetzt und dann in Form einer Dampfwolke sublimiert und auf das Substrat abgeschieden. Das Modell 603 bietet Flexibilität bei der Wahl der Abscheidungsparameter und ermöglicht die Optimierung der Prozessbedingungen bei der Filmabscheidung. Außerdem kann dem System eine Sauerstoffströmungsanlage hinzugefügt werden, um schnellere Abscheideraten zu fördern. Darüber hinaus ermöglicht die Einheit die Einbeziehung einer Vielzahl von Ionenquellen, wie Morganit, Titan-Platin und Kohlendioxid (CO2). Diese Eigenschaften und Fähigkeiten der MRC 603 Maschine machen es eine ideale Wahl für die Abscheidung von dünnen Filmen. Die hohe Kontrolle, Genauigkeit, Flexibilität und Wirtschaftlichkeit machen dieses Werkzeug für eine Vielzahl von Abscheideanwendungen attraktiv. Die Fähigkeit, mehrere Substratmaterialien zu handhaben und eine präzise und reproduzierbare Filmabscheidung durchzuführen, bietet Anwendern eine verbesserte Leistung in ihren Dünnschichtprozessen.
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