Gebraucht MRC 603 #293667099 zu verkaufen

MRC 603 ist eine Sputterabscheidung, die für die Abscheidung in einer Vakuumumgebung entwickelt wurde. Das System besteht aus einer Sputterquelle, einer Ionenquelle, einem Probenhalter, einer Vakuumkammer und einer Stromversorgung. Die Sputterquelle besteht aus einer Gleichstrom (DC) -Kathode und einer Anode, die mit einer Hochspannung geladen sind, typischerweise zwischen -400 und 1000 Volt. Diese Ladung bewirkt einen Beschuss von positiv geladenen gasförmigen Ionen, was zu einer Sputterabscheidung des in der Quelle enthaltenen Materials auf den Probenhalter führt. Die Ionenquelle wird verwendet, um positiv geladene Ionen zu neutralisieren, die während des Sputtervorgangs erzeugt werden. Dadurch wird sichergestellt, dass die zerstäubten Partikel eine gleichmäßige Größe aufweisen, wodurch das Risiko einer Probenkontamination verringert wird. Der Probenhalter besteht aus einer rotierenden Trommel und kann bis zu sieben Proben aufnehmen. Dies ermöglicht eine wiederholbare und qualitativ hochwertige Abscheidung unter den gleichen Bedingungen. Die Vakuumkammer ist die Hauptkomponente der Einheit und ist so ausgelegt, dass sie einen konstanten Druck von 10-5 Torr aufrechterhält. Um diesen Druck aufrechtzuerhalten, wird eine Rotationspumpe in die Maschine eingebaut und zur Evakuierung der Kammer verwendet. Der Druck wird vom LCD-Display der Kammer sorgfältig überwacht und gesteuert. Zwischendurch wird die Kammer mit einer High-NM-Reinigungskartusche gereinigt, mit der aufgebautes Material von den Wänden der Kammer entfernt wird. Die Stromversorgung ist die Endkomponente des Sputterwerkzeugs und dient zur Steuerung von Strom, Spannung und Zeit des Sputtervorgangs. Es ist in der Lage, bis zu drei Quellen gleichzeitig zu steuern, so dass eine gleichzeitige Abscheidung von zusätzlichen Materialien. Die Stromversorgung umfasst auch einen Timer, der einen präzisen und wiederholbaren Sputterprozess ermöglicht. Zusammenfassend ist 603 Sputter Asset so konzipiert, dass eine gleichmäßige und konsistente Beschichtung von Teiloberflächen in einer Vakuumumgebung ermöglicht wird. Das Modell ermöglicht eine gleichzeitige Abscheidung und ist einfach zu bedienen und ermöglicht zuverlässige Ergebnisse.