Gebraucht MRC 603 #293761946 zu verkaufen

MRC 603 ist eine Sputteranlage, die zur Abscheidung von dünnen Filmen verwendet wird. Es verwendet eine Gleichstrom, planare Magnetronquelle, die einen Permanentmagneten verwendet, um einen gerichteten Plasmastrom zu erzeugen. Das Sputtersystem ist mit einer HF-Quelle mit variabler Leistung ausgestattet, um eine zusätzliche Ionenenergiesteuerung bereitzustellen. 603 ist eine kompakte Einheit, die in der Lage ist, Filmabscheidungsraten von bis zu 1000 nm/min auf Substraten mit einem Durchmesser von bis zu 8 Zoll (203 mm) zu erzeugen. Die Maschine ist mit einer beheizten Kathode, einer Primvakuumkammer, einem 4-Quadranten-Massenstromregler, einem Verriegelungswerkzeug, einem Verschluss und einer Klemme ausgestattet. Die beheizte Kathode ist das Hauptelement in MRC 603, das die Qualität der resultierenden Dünnschichtabscheidung bestimmt. Es verwendet eine temperaturgesteuerte Heizung und computergesteuerte Temperatursensoren, um die richtige Temperatur zu halten und ein gleichmäßiges, konsistentes Abscheidungsergebnis zu gewährleisten. Die primäre Vakuumkammer ist eine zylindrische Kammer mit einem Schlitz auf der dem Sputtertarget zugewandten Seite. Diese Kammer soll eine anspruchsvolle saubere Umgebung für den Abscheideprozess erhalten. Es hat einen verwirrten Boden, um gleichmäßiges Pumpen zu verbessern, und einen niedrigen Vakuum-Auspuffring, um den Gesamtdruck zu reduzieren und das Substrat vor Verschmutzung zu schützen. Der 4-Quadranten-Massenstromregler dient zur Regelung der einzelnen Komponenten des aktiven Sputtergasgemisches und zur Einhaltung der optimalen Bedingungen für den Abscheideprozess. Das Interlock Asset überwacht Atmosphärendruck, Substrattemperatur, Sputterleistung und Gase. Ein Verschluss- und Klemmmodell ermöglicht den Zugang zum Sputterbereich zur Vorbereitung und Entfernung des Substrats. Der Verschluss öffnet sich automatisch, wenn der HF-Generator eingeschaltet ist und schließt, wenn der Strom abgeschaltet wird. Die Klemme wird verwendet, um das Substrat in Position zu halten und den Austausch des Substrats bei minimaler Ausfallzeit zu erleichtern. 603 ist eine äußerst zuverlässige, robuste und effiziente Sputterausrüstung, die in einer Vielzahl von Dünnschichtabscheidungsanwendungen verwendet wird. Es ist einfach aufzubauen und bietet eine präzise Steuerung der geometrischen Parameter, die notwendig sind, um einheitliche und reproduzierbare Dünnschichtabscheidungsergebnisse zu erzielen.