Gebraucht MRC 603 #9008357 zu verkaufen

MRC 603 ist eine Sputterausrüstung, die für die Dünnschichtabscheidung entwickelt wurde und sowohl zum magnetischen als auch zum Gleichstromsputtern von hochwertigen Materialien geeignet ist. Das System ist mit einer 200 mm Magnetronkathode ausgestattet, die ein präzises und wiederholbares Sputtern in beide Richtungen ermöglicht. Das Gerät verfügt über eine Vakuumkammer zur Aufnahme von Substraten bis zu 6 Zoll Durchmesser und bis zu einem Zoll Dicke, mit einem Basisdruck von weniger als 5 × 10-6 Torr. Seine Bedienung wird von einem Touch-Panel-PC mit integrierter Software gesteuert, die es den Benutzern vereinfacht und ermöglicht, Parameter wie Stromversorgungsspannung, Gasflusssteuerung, Plasmaparameter und andere zugehörige Parameter zur präzisen Steuerung des Sputterprozesses einzustellen. Die Hauptkomponenten der Maschine sind eine Stromversorgung, Vakuumkammer, Kathode mit Anode, Target, Trägerplatte und Schild. 603 bietet eine einfach zu bedienende Plattform, um hochwertige Folien über eine Reihe von Materialien abzulegen. Es ist in der Lage, sowohl positive als auch negative Ionen aus Einzel- und Doppelwinkelquellen zu zerstäuben, was ein präziseres und richtungsweisendes Sputtern ermöglicht. Das Werkzeug enthält auch eine unabhängige Sekundärelektronenkanone, die die Steuerung des Abscheidewinkels des Ionenstrahls ermöglicht, wodurch dickere und glattere Filmablagerungen über eine Reihe von Materialien erzeugt werden können. Das Asset bietet eine präzise digitale Steuerung aller Parameter, einschließlich Zielentfernung, Sputterdruck, Leistung, Spannung und anderer verwandter Parameter. Die Kammer ist auch mit einer Hochleistungs-Turbomolekularpumpe ausgestattet, die verwendet werden kann, um die Abscheidezeit zu reduzieren und höhere Filmqualitäten zu erzielen. Das Sputtermodell verfügt zudem über einen In-situ-Reinigungsprozess, der die Abscheiderate und die Folienqualität kontrolliert. Das Gerät ist mit einer automatischen Substratzentrier- und Pumpstation ausgestattet, die einen sehr geringen Ziel-Substrat-Abstand für präzises und wiederholbares Sputtern ermöglicht. MRC 603 ist entworfen, um zuverlässiges Sputtern einer breiten Palette von Materialien für Forschung und Industrie zu bieten. Seine hohe Genauigkeit, Wiederholbarkeit und Flexibilität machen es für den Einsatz in einer Vielzahl von Anwendungen geeignet, von Dünnschichtbeschichtungen, optischen und biomedizinischen Bauelementen, zur Abscheidung von Supraleitern, optischen Materialien und mehr.