Gebraucht MRC 603 #9160654 zu verkaufen

MRC 603 ist eine DC-Magnetron-Sputterausrüstung, die zum Abscheiden dünner Filme auf Substraten für eine Reihe von Anwendungen entwickelt wurde. Das System arbeitet mit einer Kombination aus DC-Magnetron, Stromversorgung, Prozesskammer und Vakuumeinheit. Das Magnetron liefert Elektronen und Ionen, die für Sputterprozesse notwendig sind, wobei die Stromversorgung den Ausgang des Magnetrons regelt. Die Prozesskammer ist typischerweise eine kleine zylindrische Kammer, wobei die Substrathalter in der Mitte montiert sind. Die Prozesskammer weist eine Öffnung für die Pump- und Gasregelmaschine sowie eine weitere Öffnung für das Magnetron auf. Das Vakuumwerkzeug hilft, den notwendigen Druck für Sputterprozesse aufrechtzuerhalten. 603 asset ist ein besonders vielseitiges Sputtermodell, da es zu verschiedenen HF-, DC-, Ar/O2 und reaktiven Sputterkonfigurationen in der Lage ist. Bei der HF-Sputterabscheidung ist das Magnetron mit einer hochfrequenten Stromversorgung gekoppelt, um ein hochfrequentes Feld zwischen Magnetron und Substratelektrode zu erzeugen. Dieses Feld bewirkt eine Ionisation des Sputtergases, was zu einer Zerstäubung führt. DC-Sputterabscheidung umfasst sowohl eine Gleichstromversorgung als auch ein Gleichstrommagnetron, wodurch ein Gleichstromfeld zwischen dem Magnetron und dem Substrat entsteht. Das Gleichspannungsfeld erzeugt eine negative Vorspannung auf der Oberfläche des Substrats, wodurch die Sputter-Ionisationsenergie erhöht wird. Ar/O2 Sputterabscheidung nutzt eine sauerstoffreiche Umgebung, die von einer Gaskontrolleinrichtung überwacht und reguliert wird. Der Sauerstoff kombiniert mit Argon, um Ar + -Ionen herzustellen, was zum Sputtern des Zielmaterials führt. Reaktive Sputterabscheidung kombiniert DC-Sputterabscheidung mit reaktiven Gasen, wie Stickstoff oder Kohlenstoff. Durch Einbringen der entsprechenden Gase kann ein dünner Film des reaktiven Materials abgeschieden werden, wie Nitrid- oder Carbidfolien. MRC 603 ist ein robustes und zuverlässiges Sputtersystem, das für eine Vielzahl von Dünnschichtabscheidungsanforderungen entwickelt wurde. Seine vielseitigen Konfigurationsmöglichkeiten machen es zu einer großen Auswahl für eine Vielzahl von Anwendungen. Das Gerät arbeitet mit hoher Leistung, wobei das Magnetfeld abgedichtet und von einer Vakuumdurchführung umschlossen ist. Die Stromversorgungssteuerung ermöglicht es dem Benutzer, Leistungsstufen für verschiedene Sputterkonfigurationen zu ändern, was für eine höhere Kontrolle und Genauigkeit des Prozesses sorgt. 603 Maschine ist eine ausgezeichnete Wahl für die Herstellung von hochwertigen Filmen auf verschiedenen Substratmaterialien.