Gebraucht MRC 603 #9194036 zu verkaufen

MRC 603 ist eine fortschrittliche Sputterausrüstung von Jelight Company Inc. Das System wurde entwickelt, um eine breite Palette von Forschungsbedarf für Dünnschichtabscheidung zu erfüllen. Es arbeitet, indem es eine Glimmentladung von Ionen erzeugt, die ein Zielmaterial bombardieren und einen dünnen Film erzeugen, indem Teilchen vom Zielmaterial abgeschlagen werden. Zu den Targetmaterialien können magnetische Materialien, Dielektrika, Halbleiter und hochleitfähiges Material gehören. Das Gerät enthält zwei maßgeschneiderte Hochvakuumkammern, robust konstruiert für lange Lebensdauer und außergewöhnliche Betriebszeit. Zur Erhöhung der Ionenbeschussrate wird eine HF-gesteuerte Plasmaquelle eingebaut. Das Endergebnis sind gleichmäßige, hochwertige Dünnschichten. Die Maschine enthält ein integriertes Kühlwerkzeug, führt mehrere Prozesse aus und ist in der Lage, vorprogrammierte Operationen durchzuführen. 603 automatisierte Dünnfilm-Abscheidung Asset ist mit einer benutzerfreundlichen, einfach zu bedienenden Software-Schnittstelle integriert. Die Oberfläche verfügt über ein intuitives Bedienprogramm zur automatischen Prozessoptimierung und eine Datenbank zur Speicherung von Rezepten, die für die schnelle Konfiguration bestimmter Prozesse und Tools erforderlich sind. Die Konfiguration der Rezepte ist einfach und kann in wenigen Schritten durchgeführt werden. Das Modell kann in zwei Modi betrieben werden; manueller Betrieb oder vollautomatischer Betrieb. Im manuellen Modus werden Operationen über die grafischen Schnittstellenmenüs geleitet, mit denen Prozessanpassungen vorgenommen werden können, um das gewünschte Produkt zu erhalten. Im vollautomatisierten Modus werden Prozesse sequentiell optimiert und die Geräte auf eine optimale Abscheidung in den Folgeläufen vorbereitet. Das System kann mit einer Reihe von Werkzeugen konfiguriert werden, um eine weitere Automatisierung zu ermöglichen. Prozesse können automatisiert und Validierungen mit einer Linearmotorstufe und einem horizontalen Probenhalter durchgeführt werden. Zusätzlich kann MRC 603 an externe Gasleitungen für kontrollierte und konstante Gasströme in die Kammer angeschlossen werden. Ausgestoßene Partikel können mit in-situ Partikelüberwachungssystemen überwacht werden. Zusammenfassend ist die Sputtereinheit 603 ein fortschrittliches Werkzeug, das für Dünnschichtabscheidungserfordernisse entwickelt wurde. Es bietet ein starkes Engineering-Design, eine robuste Konstruktion, eine intuitive Benutzeroberfläche, eine automatisierte Bedienung und eine breite Palette von Tools für mehr Flexibilität und Optimierung.