Gebraucht MRC 643 #293741512 zu verkaufen

MRC 643 ist ein magnetronreaktives Sputtergerät, das zur selektiven Dünnschichtabscheidung verwendet wird. Das System besteht aus einer Plasmaquelle, die ein 3-Kammer-Magnetron, eine fernprogrammierbare Stromversorgung, eine externe Steuerungskarte und eine hochpräzise Drehstufe ist. Die Magnetronkammer, auch Substratkammer genannt, beherbergt den Sputterzielmagneten sowie den Substrattisch. Der Substrattisch kann zwei Substrate bis 200 mm Durchmesser und 50 mm Höhe aufnehmen. Die Plasmaquelle besteht aus einem kreisförmigen Magnetron-Target von 300 mm Durchmesser mit einer 32-poligen Konstruktion, die ein gleichmäßiges Magnetfeld zwischen Innen- und Außenfläche erzeugen kann. Die externe Controller-Platine ist so konzipiert, dass sie die Stromversorgung und die zugehörigen Programme an das Sputterziel anschließt. Diese Platine ist mit einer Reihe von Temperatursensoren ausgestattet, zusammen mit einem Druckaufnehmer und Widerstandstemperaturdetektor. Das Sputtertarget besteht aus einer Graphitquelle und einer Siliziumquelle, die beide in der Magnetronkammer untergebracht sind. Die Graphitquelle ist ein Metalloxid, das dampfförmig ist und durch einen am Boden der Kammer befindlichen elektrisch beheizten Faden oxidiert wird. Durch die Erzeugung eines Heliumbasisstroms um das Filament herum wird das Metalloxid vom Magnetron-Target abgeführt, wodurch jeglicher Aufbau des Oxids verhindert wird. Die Siliziumquelle ist ein aluminiumoxidbeschichtetes Siliziumcarbidmaterial, das auf eine kontrollierte Temperatur erhitzt wird. Die Stromversorgung ist in der Lage, eine 1000-Watt-Leistung für die beiden Sputterziele im Gerät bereitzustellen. Es unterstützt auch eine Reihe von programmierbaren Anwendungen, einschließlich, Anpassung der mechanischen Drehstufen, Spannung und Strom, sowie die Steuerung von Panel-Funktionen. Die Maschine stellt auch ein Ionenmessgerät zur Verfügung, das den Arbeitsdruck in der Kammer während der Sputterprozesse messen kann und eine genaue Steuerung der Prozessparameter ermöglicht. 643 ist ein hochentwickeltes Sputterwerkzeug, das entwickelt wurde, um höchste Selektivität, Gleichmäßigkeit und Prozessreproduzierbarkeit zu erreichen. Die streng getesteten Parameter sowie die fortschrittliche Sputtertechnologie machen das Asset für unternehmenskritische Sputteranwendungen gut geeignet. Es wird sehr empfohlen für Forschung und Entwicklung, Halbleiter- und Display-Herstellung, energieeffiziente Materialien und andere fortschrittliche Sputteranwendungen.