Gebraucht MRC 643 #9179315 zu verkaufen

MRC 643 ist eine voll ausgestattete Sputterausrüstung von Enthone-OMI, Inc. Es ist ein fortschrittliches Stück wissenschaftliche Ausrüstung, die für große physikalische Dampfabscheidung (PVD) von Metallfolien, Beschichtungen und Schutzmaterialien verwendet wird. Das System nutzt bis zu vier unabhängig voneinander gesteuerte Elektronen-Pistolen-Ionenquellen sowie bis zu vier metallische Targetmaterialien, die individuell auf eine Vielzahl von Substraten sputterbeschichtet werden können. Um ein Höchstmaß an Genauigkeit und Gleichmäßigkeit zu gewährleisten, ist 643 mit einer hochmodernen mikroprozessorbasierten Steuereinheit und einem Rückkopplungsmonitor ausgestattet, der kleinste Veränderungen der Abscheidebedingungen erfassen kann. MRC 643 ist in der Lage, eine Vielzahl von PVD-Beschichtungen, wie Aluminium, Messing, Bronze, Chrom, Kobalt, Gold, Graphit, Indium, Eisen, Blei, Nickel, Palladium, Rhodium, Silber, Zinn, Titan, Wolfram und Zink zu produzieren. Die Maschine bietet auch eine breite Palette von Kammerkonfigurationen, so dass Benutzer aus einem breiten Spektrum von Arbeitsdrücken (bis zu 200 mbar) und Gasmischungen (wie Stickstoff, Argon und Kohlendioxid) wählen können. Diese Flexibilität macht 643 zu einer idealen Wahl für die Entwicklung von Industrie- und Laboranwendungen von Home Entertainment Systemen über Medizinprodukte bis hin zu Komponenten der Luft- und Raumfahrt. Die MRC 643 bietet zudem eine hohe Flexibilität bei der Substratmanipulation. Es ist in der Lage, Substrate in einer Vielzahl von Größen und Formen zu akzeptieren, von einfachen ebenen Oberflächen bis hin zu komplexen geometrischen Formen mit hochreflektierenden Oberflächen sowie einer Vielzahl nichtmetallischer Materialien. Zusätzlich ist 643 mit einem Drehtisch ausgestattet, der eine Verdrehung des Substrats ermöglicht, um ein gleichmäßiges Sputtern zu gewährleisten. Insgesamt ist MRC 643 ein hochentwickeltes und zuverlässiges Sputterwerkzeug, das Anwendern eine Vielzahl von Möglichkeiten bietet, eine Vielzahl von anspruchsvollen PVD-Beschichtungen und Substraten zu erstellen und zu entwickeln. Die intuitive Benutzeroberfläche und das umfassende Feedback sorgen dafür, dass Anwender präzise und konsistente Sputtervorgänge durchführen können, was sie zu einer idealen Wahl für Forschung und industrielle Anwendungen macht.