Gebraucht MRC 822 #9388780 zu verkaufen

MRC 822 ist eine leistungsstarke, zweiquellenreaktive Ionensputterausrüstung. Es ist mit zwei unabhängigen Sputterquellen ausgestattet: einer Elektronenstrahlkanone und einer Magnetronkanone, beide in einer Abschirmkammer montiert und mit einem geschlossenen Kühlsystem ausgestattet. Die Elektronenstrahlpistole wird durch eine eigene Stromversorgung kalibriert und gesteuert, während die Magnetronpistole von einer externen Stromquelle gespeist wird. Die Elektronenstrahlkanone ist ein sogenanntes' beam-on-target '-Design, d.h. es enthält eine Elektronenquelle, eine Fokussieroptik und ein verstopftes Wolfram-Target mit Wasserkühlung. Diese Sputterquelle hat eine breite Palette von einstellbaren Parametern, einschließlich Strahlstrom, Pistole Vorspannung, und Verschlussöffnungszeiten, so dass die genaue Steuerung der zerstäubten Materialzusammensetzung, Rate und Foliendicke. Die Magnetronpistole ist für das Totalausbeute-Sputtern ausgelegt, bei dem Argongas aus einer Kathode freigesetzt wird, um das Zielmaterial in einem geschmolzenen Zustand zu halten, wodurch Nanopartikel erzeugt werden können. Diese Quelle kann auch eingestellt werden, wobei Parameter wie Gasdurchfluss, Gaszusammensetzung und Druck einstellbar sind. Die Sputterkammer besteht aus drei Hauptteilen: der Vakuumkammer selbst, einer Substrathalterung mit Probenhalter und einer magnetischen Abschirmung. Die Kammer hat eine Pumpgeschwindigkeit von 20 mTorr und ist mit einem Ion Gauge Controller (IGC) ausgestattet, um den Kammerdruck genau zu überwachen. Die Substrathalterung kann Proben bis zu einer Größe von 200 mm aufnehmen und kann bis zu 375 ° C drehen und erwärmen. Die Kammer weist außerdem mehrere Sicherheitsmerkmale auf, darunter einen Lecksucher und ein Notentlüftungsventil, das den Kammerdruck schnell reduzieren kann. Insgesamt ist 822 eine fortschrittliche Sputtereinheit, die eine umfassende Palette von einstellbaren Sputterparametern, eine große Substrathalterung und eine effiziente Kühlmaschine bietet, die die Erzeugung von hochwertigen Folien verschiedener Dicken und Zusammensetzungen ermöglicht. Es eignet sich für eine breite Palette von Beschichtungs- und Dünnschichtforschungsprojekten, wie epitaktisches Wachstum, Abscheidung von Metall und Intermetallik, oxidierte Oberflächen und Diffusionsbarrieren.