Gebraucht MRC 8260 #9255081 zu verkaufen

MRC 8260 ist eine Hochleistungs-Sputterausrüstung, die verbesserte Abscheidungsergebnisse für verschiedene Dünnschichtanwendungen auf einer Reihe von Substraten bietet. Das System ist mit einer HF-Diodensputterquelle ausgestattet, die im Vergleich zum DC-Sputtern eine überlegene Abscheidungsrate und Gleichmäßigkeit liefert. Außerdem ermöglicht die Möglichkeit, zwei Sputterquellen unabhängig voneinander zu betreiben und deren Leistungsaufnahme präzise zu steuern, eine bessere Steuerung der Schichtdicken und Zusammensetzung. Dies ist insbesondere für die Abscheidung mehrschichtiger dünner Folien relevant. 8260 Sputtereinheit präsentiert auch eine Reihe von integrierten Funktionen, die überlegene Abscheidungsergebnisse erzielen helfen. Es verfügt über eine große, leicht konfigurierbare Prozesskammer mit einem bequemen Open-LoadLock-Design für schnelles Probenbeladen. Die Prozessumgebung weist einen Niederdruck-Plasmagenerator auf, der die Schadstoffansammlung in der Sputterkammer reduziert. Zusätzlich verfügt die Maschine über eine In-situ-Steuerung des Basisdruckes und der Gasströme. Zur präzisen Steuerung des Abscheideprozesses beinhaltet MRC-MRC 8260 einen leistungsstarken Process Controller. Es ermöglicht die Echtzeit-Überwachung und Einstellung von Temperatur und Druck in der Kammer. Darüber hinaus bietet die Steuerung eine intuitive grafische Benutzeroberfläche zur Bedienung und Steuerung der Parameter des Werkzeugs. Dazu gehört auch die Möglichkeit, bis zu sechs Arbeitsrezepte mit jeweils bis zu acht Prozessschritten zu konfigurieren. Mit seinen vielfältigen Funktionen und Steuerungsmöglichkeiten liefert 8260 zuverlässige und qualitativ hochwertige Abscheideergebnisse. Es eignet sich gut zum Sputtern von Materialien wie Nitriden, Edelmetallen, Kohlenstoff und Oxiden. Darüber hinaus eignet sich das Gut ideal für Präzisionsanwendungen wie Dünnschichtabscheidung von Dielektrika, Halbleitern, Metall und biokompatiblen Substanzen. Insgesamt ist MRC-MRC 8260 ein robustes, zuverlässiges Sputtermodell, das auf die Anforderungen der heutigen Dünnschichtabscheidung zugeschnitten ist. Es bietet eine ausgezeichnete Prozesskontrolle, hervorragende Wiederholbarkeit und überlegene Abscheidungsergebnisse für eine Vielzahl von Branchen und Anwendungen.