Gebraucht MRC 8620 #293605798 zu verkaufen

Hersteller
MRC
Modell
8620
ID: 293605798
PVD Sputtering system Type: 8620 SYS RF Diode target, 2"-5" 5" Targets: (2) Copper, Chromium, Platinum, Tantalum, Titanium, Ti/Tungsten, Tungsten 3" US gun source with 1kW US gun II with DC power supply Diffusion pump (Dow 705 oil drained) LN2 cold trap MKS 270 Pressure meter MKS 390AH-00001 1 torr baratron URS-100 gas flow controller TERRANOVA 934 Vacuum gauge controller 100sccm Ar MFC 50 sccm N2 MFC Roughing pump not included Power supply: 208 V, 3 Phase, 40 Amp, 60 Hz.
MRC 8620 ist eine fortschrittliche, leistungsstarke Sputterausrüstung, die für Anwendungen der physikalischen Dampfabscheidung (PVD) in der Materialforschung, Oberflächentechnik und einer Vielzahl anderer technischer Bereiche verwendet wird. Das Sputtersystem verfügt über eine 8-Ziel-Konfiguration mit variablem Winkel auf Magnetron-Basis, die eine breite Palette von Prozessflexibilität bietet, einschließlich variablen Druck, Temperatur, Spannung und Strom. Die Einheit ist mit einer stabilen Edelstahlkammer, vakuumbetätigtem Tor und Quelle aufgebaut. Es verfügt auch über eine langlebige Diffusionspumpe mit einer Zykluszeit von weniger als 3 Minuten und eine turbomolekulare Schrupppumpe für schnelle Zykluszeit. Hochpräzise Temperatur- und Gasregler sorgen für eine präzise Regelung der Temperatur und des Drucks während der Abscheidung. Eine erweiterte Steuerungsoberfläche erleichtert die intuitive Bedienung und kann bis zu 1000 Rezepte für eine einfache Prozessduplizierung speichern. 8620 ist in der Lage, eine Vielzahl von Materialien, einschließlich Metalle und Legierungen, Oxide, Nitride und Polymere auf eine breite Palette von Substraten abzuscheiden. Es kann Filmdicke, Zusammensetzung und Korngröße für eine Vielzahl von Anwendungen genau steuern, einschließlich Sputtertargets, Schutzbeschichtungen (wie Korrosionsschutz), antireflektierende Beschichtungen, transparente leitfähige Oxide und mehr. Mit Hochleistungsquellen ist MRC 8620 in der Lage, Abscheidung mit hoher Rate bereitzustellen. Jede der acht unabhängigen Quellen verfügt über eine aktive Magnetfeldmaschine, die ein schnelles Rampen und eine präzise Steuerung der Prozessparameter ermöglicht. HF-Leistung wird bis zu 10kW mit programmierbarer Frequenz und Modulationen verteilt, während DC-Leistung bis zu 3kW mit der Fähigkeit versorgt werden kann, Pulszeit und Anstiegs-/Abfallzeiten einzustellen. Zur Plasmaaktivierung kann eine zusätzliche Ionenquelle eingebaut werden. 8620 bietet auch eine breite Palette von Sicherheitsfunktionen, einschließlich einer automatischen Abschaltung im Notfall, Türverriegelungssysteme, Auto-Start basierend auf einem Timer oder Zeitplan, und ein HF-Energieüberwachungswerkzeug zur Fehlererkennung. Darüber hinaus verfügt das Gerät über eine Abgasanlage zur effizienten Handhabung von Reaktivgasen und Dämpfen. MRC 8620 ist ein fortschrittliches Sputtermodell, das eine breite Palette von PVD-bezogenen Prozessfähigkeiten bietet, einschließlich Hochgeschwindigkeitsabscheidung, präzise Filmdicke und Zusammensetzungssteuerung und eine breite Palette von Sicherheitsmerkmalen. Mit seiner zuverlässigen Konstruktion, der intuitiven Bedienoberfläche und der schnellen Zykluszeit ist 8620 eine ideale Lösung für Anwendungen in der Materialforschung, Oberflächentechnik und anderen verwandten technischen Bereichen.
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