Gebraucht MRC 8620 #293638700 zu verkaufen

MRC 8620
Hersteller
MRC
Modell
8620
ID: 293638700
PVD Sputtering system.
MRC 8620 ist ein umfassendes und robustes Sputterwerkzeug für Anwendungen mit hohem Durchsatz. Diese Mehrzweckausrüstung umfasst mehrere Sputterquellen und ist in der Lage, hochwertige Filme auf großen und kleinen Substraten zu produzieren. Das System verfügt über eine komplette Reihe von Plasmaprozessenergie sowie Hardware- und Softwarekomponenten zur Maximierung der Produktivität und Prozesswiederholbarkeit. 8620 ist eine vollautomatische Sputtereinheit, bestehend aus einer niederprofiligen, modularen Sputterkammer, einem großzügigen Lastschloßbereich und der Wahl von bis zu vier unabhängig betriebenen DC- oder RF-Sputterquellen. Jede Quelle kann sowohl rechteckige als auch kreisförmige Magnetrons für insgesamt bis zu acht Magnete aufnehmen. Die ferromagnetischen Substrate können mit einer Vielzahl von Materialien strukturiert werden - darunter Metalle, Keramiken, Polymere und Isolatoren - durch Sputtern auf optischer Basis, thermische Verdampfung oder Multizielsputtern. Die Kammer beinhaltet eine In-situ-Wischmaschine zur effektiven Übertragung von Filmen von Ziel zu Ziel während Mehrzielsputteroperationen. Der fortschrittliche Werkzeugregler bietet Kontrolle über alle Sputterparameter, einschließlich Temperatur, Druck, Pumpendrehzahl, Gasfluss, Vorspannung, Sputterspannung und mehr. Neben der Echtzeit-Prozessüberwachung und -steuerung über eine grafische Schnittstelle ist das Asset mit mehreren Schutzfunktionen ausgestattet, so dass Bediener routinemäßig gewünschte Abscheideparameter einstellen können, ohne die Gleichmäßigkeit des Films zu beeinträchtigen oder die Substrate zu beschädigen. Die große Wafer-Lastschloßkammer des MRC 8620 ist in der Lage, bis zu acht 6 „/8 “-Substrate oder bis zu vier 8 „/12“ -Substrate für das gleichzeitige Be-/Entladen aufzunehmen. Das Modell ist außerdem mit einer Kammerdrehstufe ausgestattet, die eine gleichmäßige Bearbeitung über die gesamte ebene Fläche ermöglicht. Insgesamt bietet die vielseitige Sputterplattform 8620 Anwendern die Flexibilität, eine Vielzahl von Anwendungen abzudecken, von Dünnschichtsolarzellen über Touchscreens bis hin zu MEMS-Geräten. In Kombination mit seinem zuverlässigen und effizienten Design kann diese Ausrüstung ein wertvoller Vorteil für jedes produktivitätsorientierte Labor sein.
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