Gebraucht MRC 902M #9255814 zu verkaufen
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ID: 9255814
Sputtering system
(2) Standard rectangular targets
Sputter etch
Pallet size: 12" x 12”.
MRC 902M ist eine Sputteranlage, die im Dünnschichtabscheidungsprozess verwendet wird. Sputterabscheidung ist ein physikalisches Aufdampfverfahren (PVD), bei dem ein dünner Materialfilm auf ein Substrat aufgebracht wird. Dieses Abscheidungsverfahren beruht auf kinetischer Energie, die in einer Vakuumkammer entwickelt wird, um dünne Schichten eines Zielmaterials zu entfernen und auf dem Substrat abzuscheiden. 902M System verfügt über eine hybride Gleichstrom-/Puls-Gleichstromquelle, die eine präzise Steuerung des Sputterabscheidungsprozesses ermöglicht. Es umfasst zwei hocheffiziente, segmentierte, lineare 7.5-kW Magnetrons mit physikalischer Abschirmung/Wasserkühlung für Mehrkammerbetrieb. Eine erweiterte Substrat-Rotationseinheit ermöglicht auch eine gleichmäßige Abscheidung auf großen Substraten. MRC 902M Sputter umfasst eine breite Palette von Prozessgasfunktionen, so dass der Benutzer eine Vielzahl von Materialien sputtern kann. Insbesondere ermöglicht es reaktives Sputtern mit Sauerstoff, Stickstoff und Argon, so dass es ideal für die Ablagerung von Oxiden, Nitriden und Siliziden. Die Maschine verfügt auch über eine breite Palette von Druck/Prozessparametern, die genau eingestellt werden können, so dass eine volle Palette von Prozesssteuerung. 902M bietet hochwertige, kostengünstige Sputterabscheidung von Dünnschichtmaterialien in einer einzigen Kammer. Sein fortschrittliches Werkzeug zur Substratrotation bietet eine sehr gleichmäßige und wiederholbare Abscheidung, während seine fortschrittlichen Prozessgasfähigkeiten ein reaktives Sputtern einer Vielzahl von Materialien ermöglichen. Die robuste, hocheffiziente Energiequelle und die präzisen Prozessparameter bieten eine anwendungsspezifische Dünnschichtabscheidung und sind somit ein leistungsfähiges Gut für eine Vielzahl von Dünnschichtabscheidungsanwendungen.
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