Gebraucht MRC 903 series #5708 zu verkaufen

MRC 903 Sputterausrüstung ist ein vollautomatisches Sputtersystem, das entwickelt wurde, um eine gleichmäßige, wiederholbare Abscheidung von metallischem, dielektrischem, Halbleiter- und supraleitendem Material bereitzustellen. Es ist ein ideales Werkzeug für verschiedene Anwendungen wie Flash-Memory-Metallisierung, Halbleiterbauelementmetallisierung, Maskenbeschichtungen, Magnetsensoren, optische Beschichtungen und Solarzellenbeschichtungen. Das Gerät umfasst folgende Schritte: Vorsputterstufe, Niederdrucksputterstufe, Nachsputterstufe und Vakuumätzstufe. Für jeden Schritt wird der Gesamtbetrieb optimiert, um den höchsten Durchsatz zu erzielen, einschließlich hochpräziser Stufensteuerung mit mehrachsigen Stufen, gleichzeitigem mehrteiligem Sputtern und Heiz-/Kühlhardware mit ausgeklügelten Prozessüberwachungs- und Steuerungsfunktionen. Die Substratstufe beinhaltet eine fortschrittliche Bewegungssteuerungsmaschine für die Substratbewegung mit der Echtzeit-Regelung der eingeschlossenen Sputterzeit und des Kammerdrucks. Es verwendet auch eine Elektronenstrahl-Heizfunktion, um eine gleichmäßige Temperaturverteilung bereitzustellen. Darüber hinaus verfügt die Stufe über einen E-Strahl-Verdampfer, der zum multidirektionalen Sputtern und sogar für Prozessschritte wie Ätzen und Reinigen verwendet werden kann. Der E-Strahl-Verdampfer kann auch zur Regelung der Gleichmäßigkeit von Sputterrate und Dicke durch Regelung der Substrattemperatur und des Vakuumniveaus verwendet werden. Die Magnetronsputtertechnik des Werkzeugs ermöglicht die Sputterabscheidung von Isolatoren, Leitern und Halbleitern auf unregelmäßigen und kleinen Substraten. Der Sputterprozess wird mit drei Magnetronen mit einem weiten Winkelbereich durchgeführt. Die Sputterrate kann durch verschiedene Parameter wie Plasmaleistung, Kammerdruck und Gasfluss gesteuert werden. Die Anlage ist voll ausgestattet mit Software entwickelt, um Rezepte zu verwalten und die Parameter zu passen, die erforderlich sind, um einen effizienten Sputterprozess zu erreichen. Für die Nachsputterstufe verfügt MRC 903 über ein eingebautes Kühlmodell, das die Abscheidung einer unerwünschten Menge an Material verhindert und eine bessere Kontrolle des Abscheidungsprozesses ermöglicht. Die Vakuumätzstufe verwendet ein Atomkraftmikroskop, das in der Lage ist, das Ätzniveau genau zu steuern und die Musterform, Tiefe und Materialstärke der Abscheidung genau zu steuern. MRC 903 kann sowohl für F&E als auch für die Produktion dienen und der automatisierte Sputterprozess führt zu einem hohen Grad an Kontrolle, kürzeren Zykluszeiten und verbesserten Erträgen. Es ist aufgrund seiner Flexibilität und Zuverlässigkeit eine ideale Ausrüstung für ein breites Anwendungsspektrum.