Gebraucht MRC 903 #9199289 zu verkaufen

Hersteller
MRC
Modell
903
ID: 9199289
Sputtering system (3) DC Targets MAGNETRON DC Supply 10 kW Load lock CTI 8 On-board cryo pump CTI 8200 On-board compressor MKS Digital MFC SIEMENS PLC Hydraulic system Heater: Etch position Aluminum Missing parts: Etcher Mechanical pump RF Etch SiCr and AL targets.
MRC 903 ist eine fortschrittliche Tischplattensputterausrüstung, die eine hochwertige Dünnschichtabscheidung mit zuverlässiger Prozesswiederholbarkeit bietet. Es ist ein Hochgeschwindigkeits-Sputtersystem, das dünne Schichten für Anwendungen wie optische Beschichtungen, MEMS, Optoelektronik, MEMS und ASICs erzeugt. 903 ist eine dreiachsige Sputtereinheit mit einer Graphitquelle und einem drehbaren Substrathalter. Es verfügt über eine abgeschirmte 5kV Transistor-Sputterpistole und einen Gaskasten mit bis zu acht Gasleitungen und zwei Ventilvakuumventilen. Es verfügt über eine hochenergetische Elektronenkanone zum Sputtern und eine Elektronenkanone mit einem planaren Ziel. MRC 903 bietet auch eine Vielzahl von Hilfsquellen wie Ionenquellen, Argonplasmaquellen, Hochfrequenz- und Mikrowellengeneratoren. 903 verfügt über eine einzigartige dreistufige einheitliche Abscheidekammer, die gleichzeitig das Sputtern und Verdampfen mehrerer Targets mit separaten Stromversorgungen und Kammerbedingungen ermöglicht. Es hat eine ausgezeichnete Abscheidekammereinheitlichkeit mit einem breiten Spektrum von Abscheidungsparametern, einschließlich Kammerdruck, Temperatur und Gas- und Ionisationsniveaus. Die Benutzeroberfläche des MRC 903 ist außergewöhnlich anpassbar und ermöglicht eine präzise Steuerung der Sputterverarbeitung. 903 ist mit pneumatisch betätigten, motorisierten linearen Stufen aufgebaut, die eine präzise Bewegung und Positionierung des Ziels und des Substrats ermöglichen. Es hat eine doppelseitige Platte, die ein stabiles, einfallsreiches Magnetfeld bietet, um das Ziel und das Substrat an Ort und Stelle zu halten. Die Oberflächenmagnetplatten der MRC 903 können auch zur Steuerung der Winkelposition des drehbaren Substrathalters verwendet werden. 903-Design bietet auch einen bequemen Schutz für den Substrathalter und Ziel, so dass es eine sichere und zuverlässige Wahl für Dünnschichtabscheidung. Es enthält alle Elemente, die für eine hochwertige Dünnschichtabscheidung benötigt werden, einschließlich der Verdampfungsquelle, der Platte sowie der Substrat- und Graphitquellen. Zusammenfassend ist MRC 903 eine zuverlässige Tischplattensputtermaschine, die eine hochwertige und wiederholbare Dünnschichtabscheidung für eine Vielzahl von Halbleitertechnologien bereitstellen kann. Es ist ein einfallsreiches und anpassbares Gerät mit vielen Funktionen, um eine effiziente und effektive Dünnschichtabscheidung zu gewährleisten. Seine hervorragenden Konstruktionsmerkmale und Benutzerfreundlichkeit machen es zu einer idealen Lösung für Forscher, die präzisionsgesteuerte Sputteroperationen benötigen.
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