Gebraucht MRC 903 #9242553 zu verkaufen

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Hersteller
MRC
Modell
903
ID: 9242553
Sputtering system Includes: Chamber (3) targets Heating station (No lamps) Load-lock Lift Movements (Except motor and carrier) Diffusion pump Vacuum valves Gas distribution (So So) ADVANCED ENERGY 15 kW DC Power supply Does not includes: Gas pipes Primary pumps Gauges Movements automation.
MRC 903 ist eine Sputteranlage, die Dünnschichtmaterialien auf Oberflächen aufbringt, um Dünnschichtstrukturen zu erzeugen. Das System besteht aus einer Vakuumkammer, Vakuumpumpen, einer Sputterpistole, Autoladekammern und einer computergesteuerten Sputterstromversorgung. 903 verfügt über eine integrierte Drehflügelpumpe zur Aufrechterhaltung eines niedrigen Drucks innerhalb der Vakuumkammer. Die Pumpe ist mit dem Kammereinlaß zur Entlüftung bei Atmosphärendruck verbunden. Die Kammer kann das Gas in der Kammer bis auf 1x10-6 Torr evakuieren. Dadurch können verschiedenste Materialien und Substrate verarbeitet werden. Mit der Sputterpistole innerhalb der Kammer wird der Film aus einem Zielmaterial auf das Substrat gesputtert. Die Sputterenergie wird durch negatives Laden des Zielmaterials innerhalb einer Vakuumkammer sowie durch eine Injektorpistole erzeugt, die energetische Ionen emittiert. Durch das Sputtern entsteht ein dünner Film aus abgeschiedenem Material auf dem Substrat. Um den Produktionsprozess zu maximieren, verwendet MRC 903 Autolast-Kammern, die mehrere Substrate aufnehmen können. Sobald sich die Substrate in der Kammer befinden, beginnt der Sputtervorgang. Die Kammer wird auf einen geeigneten Druck evakuiert und die rechnergesteuerte Sputter-Stromversorgung dient dazu, das Zielmaterial mit der erforderlichen Leistung zu versorgen. Nach dem Aufbringen der Folie kann das Substrat zum Verdampfer bewegt werden, um es aufzuheizen. Durch den Verdampfungsprozeß entsteht ein gleichmäßiger Film, der dann zur Kühlung in die Kühlkammer überführt wird. Sobald die Folie gekühlt ist, ist sie für eine Vielzahl von Anwendungen einsatzbereit. 903 verfügt über eine integrierte Computereinheit, die die Programmierung und Überwachung des gesamten Sputterprozesses ermöglicht. Das Verfahren kann an verschiedene Substrate, Folien und Anwendungsanforderungen angepasst werden. Dadurch ist es möglich, unterschiedlichste Materialien bei hohen Abscheideraten mit hoher Genauigkeit und Gleichmäßigkeit abzuscheiden. Insgesamt ist MRC 903 eine effiziente Sputtermaschine, die dem Anwender eine präzise und wiederholbare Filmabscheidung bietet. Das fortschrittliche Computerwerkzeug ermöglicht eine vollständige Anpassung des Prozesses, wodurch eine hohe Qualität und gleichmäßige Dünnschichten hinterlegt werden. Die Anlage eignet sich für eine Vielzahl von Materialien, Substraten und Anwendungen.
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